用于制造出全息圖的印版和用于制造印版的方法技術

本發明專利技術涉及一種用于制造次級版(9)的方法，該次級版用于在幅帶形式或者頁張形式的承印物上制造全息圖或者其它折射光的或者衍射的微結構，在次級版(9)上產生一個微浮雕(8)，這是通過成型一個位于初級版(6)上的微浮雕(8)的陰模(7)并且在成型時微浮雕(8)由位于初級版(6)和次級版(9)之間的一個模版(2)限定。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種用于制造次級版的方法，該次級版用于在幅帶形式或者頁張形式的承印物上制造出全息圖或者制造出折射光的或者衍射的其它微結構。另外，本專利技術涉及一種用于在幅帶形式或者頁張形式的承印物上制造出全息圖或者制造出折射光的或者衍射的其它微結構的印版。這種印版固定在滾筒(例如印刷機滾筒)上，用以能夠印刷或者壓印出全息圖。全息圖可以是產品包裝的安全性特征或者裝飾件。
技術介紹
DE102013016117A1給出了一種具有浮雕結構的、經澆鑄的硅樹脂印版。這種印版用于在承印物上制造出全息圖。
技術實現思路
本專利技術的任務是提出一種適用于制造局部全息圖(Spot-Hologramme)的印版和一種適用于制造這種印版的方法。這個任務通過一種用于制造次級版的方法來解決，該次級版用于在幅帶形式或者頁張形式的承印物上制造出全息圖或者制造出折射光的或者衍射的其它微結構，其中，在次級版上產生有微浮雕，其方式是，成型出微浮雕的位于初級版上的陰模，并且，在成型時，微浮雕通過初級版與次級版之間的模版(Schablone)限界。另外，這個任務通過一種印版來解決，該印版用于在幅帶形式或者頁張形式的承印物上制造出全息圖或者制造出折射光或者衍射的其它微結構，其中，這個印版作為次級版采用按照本專利技術的方法來制造。按照本專利技術方法的各種改進方案都是可行的。在一改進方案中，在本方法的第一步驟中，模版與次級版相連接。在此，模版可以通過粘接與次級版相連接。在一改進方案中，在本方法的第二步驟中，將模版內的一個或者多個空隙用流體填充。在一改進方案中，在第三步驟中，陰模被壓入到空隙內的流體中，并且，由此壓印出微浮雕。在第三步驟中，模版空隙外部的陰模作用被該模版中和(neutralisiert)。在一改進方案中，在次級版處于隨時可用狀態中的情況下，次級版包括所述模版作為組成部分。在此，在該隨時可用狀態中，微浮雕與模版幾乎齊平。在一可選的改進方案中，模版與初級版相連接，并且，隨后將模版從初級版傳遞到次級版上。附圖說明由以下實施例和所屬附圖的說明也得出其它改進方案，圖中示出：圖1：模版與次級版相連接，圖2：模版內的空隙被填充有流體，圖3：微浮雕的陰模被壓入到空隙內的流體中，和圖4：處于隨時可用狀態中的次級版。在圖1至圖4中用相同的附圖標記標明相互對應的元件。具體實施方式圖1示出了承載板1，該承載板1具有粘貼在其上的模版2。模版2是蒙版膜(Maskierungsfolie)。無水膠印用的印版坯件被用作承載板1。承載板1由不同的材料層組成，這在附圖中沒有示出。模版2具有一個或者多個空隙3，所述空隙3穿過模版2。空隙3預先給定了隨后的局部全息圖的輪廓。圖2示出了空隙3被填充有流體4(例如硅樹脂)。流體4被刮刀5涂抹到空隙3內，從而流體4與空隙3齊平。所述填充能夠旋轉式或者如圖所示地平移式實現。在旋轉式變型方案中，由承載板1和模版2組成的夾層組件(Sandwich-Anordnung)布置在可旋轉的滾筒上。圖3示出了初級版6壓制到模版2上并且壓制到空隙3內的流體4上。初級版6也可稱作母版。初級版6配備有微浮雕的陰模7，所述陰模7成型到空隙3內的流體4中。陰模7在初級版6的整個壓制面上延伸，也就是說，陰模7也在壓制面的如下區域中延伸：該區域與位于空隙3外部的模版2閉合區域相對置。所述壓制能夠旋轉式或者如圖所示地平移式實現。在旋轉式壓制時，初級版6布置在滾筒上并且在模版2上滾壓。圖4示出了初級版6與模版2脫離，其中，陰模7在空隙3內的流體4中留下壓印印痕在流體4隨后硬化之后，該壓印印痕構成了微浮雕8，所述微浮雕用于在幅帶形式或者頁張形式的承印物上印刷或者壓印出全息圖或者衍射的或者折射光的其它微結構。微浮雕8與模版2的外表面幾乎齊平。因此，采用按照本專利技術的方法由承載板1制成的次級版9的表面與苯胺印版的表面較少相似，而與膠印印版的表面較多相似。也就是說，次級版9的表面比較平坦。換句話說：次級版9是這樣的印版，該印版在基本上平坦的面內包含至少一個全息圖區域和至少一個非全息圖區域，并且，特征在于，這兩個區域或是由相互不同的材料組成，或是由在不同的過程步驟中被施加的相同材料組成。采用在圖1至圖4中示出的步驟制造出次級版9，所述次級版9可以布置在印刷機的滾筒上。按照“借助次級版進行微浮雕壓印”的方法變型方案，借助次級版9將微浮雕8成型到流體層(例如事先已經施加到承印物上的亮油層)內，其中，流體層隨后硬化(例如通過照射)。微浮雕8的已硬化的壓印印痕構成了承印物上的局部全息圖。按照“借助次級版進行微浮雕壓印”的另一方法變型方案，借助次級版9將微浮雕8成型到流體層(例如已施加到次級版9上的亮油層)內，其中，流體層隨后稍微凝固(例如通過照射)。隨后，將仍粘的薄膜與微浮雕8一起從次級版9傳遞(印刷)到承印物上并在該承印物上完全硬化(例如通過繼續照射)。局部全息圖可以用作產品包裝的真實性特征或者安全特征，該產品包裝由承印物(例如通過模切和折疊)制成。在印刷或者壓印出局部全息圖時，模版2會提高那些同樣被流體層覆蓋的、位于局部全息圖旁邊的承印物區域的光澤度。在附圖中未示出的改型方案中，模版2粘貼到初級版6上，并且，承載板1全面地涂上流體4。隨后，初級版6與模版2一起壓向承載板1上的流體4，由此使流體4大部分擠壓到空隙3內。留在模版2閉合區域下方的薄的流體薄膜將模版2與承載板1相粘接，從而模版2與承載板1之間的附著力大于模版2與初級版6之間的附著力。在初級版6與承載板1脫離時，模版2與初級版6脫離，并且，模版2保持粘貼到承載板1上。采用這種方式也實現了：處于隨時可用狀態中的次級版9包括了作為組成部分的模版2，并且，在此，微浮雕8與模版2幾乎齊平。參考標記列表：1承載板2模版3空隙4流體5刮刀6初級版7陰模8微浮雕9次級版。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種用于制造次級版(9)的方法，所述次級版用于在幅帶形式或者頁張形式的承印物上制造出全息圖或者制造出折射光的或者衍射的其它微結構，其中，在次級版(9)上生成有微浮雕(8)，其方式是，成型出微浮雕(8)的位于初級版(6)上的陰模(7)，并且，在成型時，微浮雕(8)通過初級版(6)與次級版(9)之間的模版(2)限界。

【技術特征摘要】
2015.07.15 DE 102015213239.01.一種用于制造次級版(9)的方法，所述次級版用于在幅帶形式或者頁張形式的承印物上制造出全息圖或者制造出折射光的或者衍射的其它微結構，其中，在次級版(9)上生成有微浮雕(8)，其方式是，成型出微浮雕(8)的位于初級版(6)上的陰模(7)，并且，在成型時，微浮雕(8)通過初級版(6)與次級版(9)之間的模版(2)限界。2.根據權利要求1所述的方法，其中，在第一步驟中，模版(2)與次級版(9)相連接。3.根據權利要求2所述的方法，其中，模版(2)與次級版(9)通過粘貼相連接。4.根據權利要求2或3所述的方法，其中，在第二步驟中，模版內的一個或者多個空隙(...

【專利技術屬性】
技術研發人員：M·施米特萊文，B·布克，M·特倫，
申請(專利權)人：海德堡印刷機械股份公司，
類型：發明
國別省市：德國;DE