The utility model discloses a lifting bedplate, including RF, water lifting rod, mounting substrate, telescopic bellows, lifting plate and the driving unit, the mounting substrate is fixed, the lifting rod end through the mounting substrate and connected with the lifting plate, the upper end of the water table in the installation the lifting rod, the telescopic corrugated pipe is arranged on a lifting rod, and one end of the mounting substrate and the other end is connected with the lifting plate connection, the driving unit and the lifting base plate and connected with a drive rod lifting along the substrate lifting installation. The utility model adopts the structure of drive unit, lifting plate, lift supporting rod, to realize water table automatic lifting, simple and compact structure, to avoid the transfer of substrate handling water cooling platen by vacuum manipulator in the prior art, reduces the cost.
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本技術(shù)涉及真空工藝設(shè)備射頻清洗、刻蝕應(yīng)用領(lǐng)域,尤其涉及一種可升降射頻臺(tái)。
技術(shù)介紹
隨著半導(dǎo)體工藝的高速發(fā)展, PVD、刻蝕設(shè)備中基片的清洗、刻蝕工藝成為一種常規(guī)工藝。射頻清洗、刻蝕工藝過程中,需要對(duì)基片溫度進(jìn)行有效控制,生產(chǎn)型設(shè)備中還需實(shí)現(xiàn)射頻臺(tái)與傳送機(jī)構(gòu)手之間的基板傳遞。傳統(tǒng)設(shè)備中射頻臺(tái)固定不動(dòng),利用真空機(jī)械手實(shí)現(xiàn)射頻臺(tái)基片的裝卸傳遞,結(jié)構(gòu)復(fù)雜,成本高昂。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本技術(shù)要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低、避免了現(xiàn)有技術(shù)中采用真空機(jī)械手實(shí)現(xiàn)水冷臺(tái)板上的基片的裝卸傳遞的可升降射頻臺(tái)。為解決上述技術(shù)問題,本技術(shù)采用以下技術(shù)方案:一種可升降射頻臺(tái),包括水冷臺(tái)板、升降支桿、安裝基板、伸縮波紋管、升降底板和驅(qū)動(dòng)單元,所述安裝基板固定設(shè)置,所述升降支桿下端穿過所述安裝基板并與升降底板連接,所述水冷臺(tái)板安裝于升降支桿的上端,所述伸縮波紋管套設(shè)于升降支桿上,且一端與安裝基板連接另一端與升降底板連接,所述驅(qū)動(dòng)單元與升降底板連接并可驅(qū)動(dòng)升降支桿沿安裝基板升降。作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn):所述水冷臺(tái)板內(nèi)設(shè)有環(huán)形水冷槽,所述環(huán)形水冷槽與升降支桿同軸設(shè)置,所述水冷臺(tái)板的底端設(shè)有進(jìn)水接口、出水接口和射頻引入接口。所述升降支桿的上端安裝有絕緣件,所述水冷臺(tái)板固定在絕緣件上。所述水冷臺(tái)板、絕緣件、升降支桿和升降底板均為同軸設(shè)置。所述絕緣件、升降支桿和升降底板為中空結(jié)構(gòu),所述進(jìn)水接口、出水接口對(duì)應(yīng)的進(jìn)水管、出水管以及射頻引入接口對(duì)應(yīng)的射頻引入功率線依次從絕緣件、升降支桿和升降底板的內(nèi)部穿過。所述可升降射頻臺(tái)還包括升降導(dǎo)桿,所述升降導(dǎo)桿固定在安裝基板上,所述 ...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種可升降射頻臺(tái),其特征在于:包括水冷臺(tái)板(1)、升降支桿(2)、安裝基板(3)、伸縮波紋管(4)、升降底板(5)和驅(qū)動(dòng)單元(6),所述安裝基板(3)固定設(shè)置,所述升降支桿(2)下端穿過所述安裝基板(3)并與升降底板(5)連接,所述水冷臺(tái)板(1)安裝于升降支桿(2)的上端,所述伸縮波紋管(4)套設(shè)于升降支桿(2)上,且一端與安裝基板(3)連接另一端與升降底板(5)連接,所述驅(qū)動(dòng)單元(6)與升降底板(5)連接并可驅(qū)動(dòng)升降支桿(2)沿安裝基板(3)升降。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種可升降射頻臺(tái),其特征在于:包括水冷臺(tái)板(1)、升降支桿(2)、安裝基板(3)、伸縮波紋管(4)、升降底板(5)和驅(qū)動(dòng)單元(6),所述安裝基板(3)固定設(shè)置,所述升降支桿(2)下端穿過所述安裝基板(3)并與升降底板(5)連接,所述水冷臺(tái)板(1)安裝于升降支桿(2)的上端,所述伸縮波紋管(4)套設(shè)于升降支桿(2)上,且一端與安裝基板(3)連接另一端與升降底板(5)連接,所述驅(qū)動(dòng)單元(6)與升降底板(5)連接并可驅(qū)動(dòng)升降支桿(2)沿安裝基板(3)升降。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可升降射頻臺(tái),其特征在于:所述水冷臺(tái)板(1)內(nèi)設(shè)有環(huán)形水冷槽(12),所述環(huán)形水冷槽(12)與升降支桿(2)同軸設(shè)置,所述水冷臺(tái)板(1)的底端設(shè)有進(jìn)水接口(13)、出水接口(14)和射頻引入接口(15)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的可升降射頻臺(tái),其特征在于:所述升降支桿(2)的上端安裝有絕緣件(7),所述水冷臺(tái)板(1)固定在絕緣件(7)上。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的可升降射頻臺(tái),其特征在于:所述水冷臺(tái)板(1)、絕緣件(7)、升降支桿(2)和升降底板(5)均為同軸設(shè)置。5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的可升降射頻臺(tái),其特征在于:所述絕緣件(7)、...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:佘鵬程,龔俊,陳特超,范江華,
申請(qǐng)(專利權(quán))人:中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所,
類型:新型
國(guó)別省市:湖南;43
還沒有人留言評(píng)論。發(fā)表了對(duì)其他瀏覽者有用的留言會(huì)獲得科技券。