【技術實現步驟摘要】
【技術保護點】
一種制作低反射金屬結構的方法，其特征在于，包括：提供一第一基板；于該第一基板上形成一金屬層；于該金屬層上及/或下形成一低反射層，該低反射層包括一金屬氧化物層或一金屬氮氧化物層；以及對該低反射層與該金屬層進行一圖案化工藝，以形成一圖案化低反射層以及一圖案化金屬層。
【技術特征摘要】
...
【專利技術屬性】
技術研發人員：王碩宏，林巧雯，張家銘，林俊男，
申請(專利權)人：友達光電股份有限公司，
類型：發明
國別省市：中國臺灣;71
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