本實用新型專利技術提供一種碳納米材料制備電弧爐，涉及一種碳納米材料技術領域。該實用新型專利技術包括機架、真空室、水冷陰極、水冷消耗陽極、陽極轉盤和自動進給機構，真空室和自動進給機構均設置在機架上，真空室位于自動進給機構的左側，水冷陰極、水冷消耗陽極和陽極轉盤均設置在真空室內，水冷陰極位于真空室左端，水冷消耗陽極位于真空室右端，水冷消耗陽極的一端靠近水冷陰極，水冷消耗陽極的另一端固定在陽極轉盤上，陽極轉盤與自動進給機構連接。本實用新型專利技術結構簡單、易于制造、成本低廉，提高了生產效率，降低了生產成本，具有極大的生產實踐意義。
【技術實現步驟摘要】
本技術涉及一種碳納米材料
，特別是涉及一種一種碳納米材料制備電弧爐。
技術介紹
納米材料是指材料的特征尺寸在100納米(nm)以下的材料。其中碳納米材料包括碳納米管、碳納米角、富勒烯、碳洋蔥球、石墨烯、不定型碳等等由單層或多層碳原子組成的納米結構。微小的物理尺度賦予了納米材料超越傳統材料的許多優異性能和廣泛的應用。然而由于制備方法的限制，碳納米材料除了多壁碳納米管等得到大量制備外，大多產量有限，大大限制了納米材料的市場化應用。從富勒烯和碳納米管被發現以來，碳納米材料的制備方法一直以真空電弧法和化學氣相沉積法為主，大多需要催化劑，制備出的納米材料純度不高，后期的提純和催化劑的去除很難且增加成本，使用真空設備既復雜又進一步增加了設備本身的成本，化學氣相沉積法的操作規程繁瑣，生產效率低下。以上問題使碳納米材料的制備和應用只能限于實驗室，如何突破這一瓶頸一直是困擾科學界的難題。
技術實現思路
針對上述問題中存在的不足之處，本技術提供一種碳納米材料制備電弧爐，使其結構簡單、易于制造、成本低廉，提高了生產效率，降低了生產成本，具有極大的生產實踐意義。為了解決上述問題，本技術提供一種碳納米材料制備電弧爐，其中，包括機架、真空室、水冷陰極、水冷消耗陽極、陽極轉盤和自動進給機構，所述真空室和所述自動進給機構均設置在所述機架上，所述真空室位于所述自動進給機構的左側，所述水冷陰極、所述水冷消耗陽<br>極和所述陽極轉盤均設置在所述真空室內，所述水冷陰極位于所述真空室左端，所述水冷消耗陽極位于所述真空室右端，所述水冷消耗陽極的一端靠近所述水冷陰極，所述水冷消耗陽極的另一端固定在所述陽極轉盤上，所述陽極轉盤與所述自動進給機構連接。優選的，所述接料倉位于所述真空室的底部，所述旁抽管道位于所述真空室的后方，所述旁抽管道上設置有旁抽閥，所述真空室的底端設置有充氣閥和進氣閥。優選的，所述真空室的上端設置有去渣機械手與真空計，所述去渣機械手位于所述真空計的左側。優選的，所述機架內設置有真空抽氣系統、總控電源和控制電源，所述總控電源位于所述控制電源的左側，所述真空抽氣系統位于所述總控電源的下方。優選的，所述真空室的左端設置有真空室門。與現有技術相比，本技術具有以下優點：本技術結構簡單、易于制造、成本低廉，提高了生產效率，降低了生產成本，具有極大的生產實踐意義。附圖說明圖1是本技術的實施例結構示意圖。具體實施方式為了使本技術的目的、技術方案及優點更加清楚明白，下面結合附圖與實例對本技術作進一步詳細說明，但所舉實例不作為對本技術的限定。如圖1所示，本技術的實施例包括機架、真空室3、水冷陰極5、水冷消耗陽極6、陽極轉盤7和自動進給機構10，真空室3和自動進給機構10均設置在機架上，真空室3位于自動進給機構10的左側，水冷陰極5、水冷消耗陽極6和陽極轉盤7均設置在真空室3內，水冷陰極5位于真空室3左端，水冷消耗陽極6位于真空室3右端，水冷消耗陽極6的一端靠近水冷陰極5，水冷消耗陽極6的另一端固定在陽極轉盤7上，陽極轉盤7與自動進給機構10連接。接料倉8位于真空室3的底部，旁抽管道9位于真空室3的后方，旁抽管道9上設置有旁抽閥，真空室3的底端設置有充氣閥和進氣閥。真空室3的上端設置有去渣機械手2與真空計1，去渣機械手2位于真空計1的左側。機架內設置有真空抽氣系統13、總控電源11和控制電源12，總控電源12位于控制電源的左側，真空抽氣系統13位于總控電源11的下方。真空室3的左端設置有真空室門4。本實施例的工作過程：啟動真空系統的機械泵對真空室3進行抽氣，真空室3達到本體真空之后，關閉旁抽閥，向真空室3充入工作氣體Ar，到達一定真空度后，啟動水冷陰極5與水冷消耗陽極6，用自動進給機構10調節電極間的起弧間隙，等待起弧。起弧后可通過調節電流大小來控制電弧功率與陽極消耗速率。在工作過程中，自動進給機構10通過其控制系統自動調節電極間的間隙，并通過伺服電動機向陽極傳遞動力，使其左右移動，陽極轉盤7上有五支石墨電極，當一根電極被消耗后，手動搬動陽極切入到下一個工位，調整后，可重新引弧繼續工作，長時間工作后陰極頭積渣過多時可動搬動去渣機械手2對陰極頭進行清理，工作結束后從接料倉8將粉末取出即可。本專利技術的核心點是在真空室3右側設置自動進給機構10，在工作過程中，自動進給機構10通過其控制系統自動調節電極間的間隙，并通過伺服電動機向陽極傳遞動力，使其左右移動，同時陽極轉盤7上有五支石墨電極，當一根電極被消耗后，手動搬動陽極切入到下一個工位，調整后，可重新引弧繼續工作。對所公開的實施例的上述說明，使本領域專業技術人員能夠實現或使用本技術。對這些實施例的多種修改對本領域的專業技術人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實用新型的精神或范圍的情況下，在其它實施例中實現。因此，本實用新型將不會被限制于本文所示的這些實施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一致的最寬的范圍。本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種碳納米材料制備電弧爐，其特征在于，包括機架、真空室、水冷陰極、水冷消耗陽極、陽極轉盤和自動進給機構，所述真空室和所述自動進給機構均設置在所述機架上，所述真空室位于所述自動進給機構的左側，所述水冷陰極、所述水冷消耗陽極和所述陽極轉盤均設置在所述真空室內，所述水冷陰極位于所述真空室左端，所述水冷消耗陽極位于所述真空室右端，所述水冷消耗陽極的一端靠近所述水冷陰極，所述水冷消耗陽極的另一端固定在所述陽極轉盤上，所述陽極轉盤與所述自動進給機構連接。
【技術特征摘要】
1.一種碳納米材料制備電弧爐，其特征在于，包括機架、真空室、
水冷陰極、水冷消耗陽極、陽極轉盤和自動進給機構，所述真空室和所述
自動進給機構均設置在所述機架上，所述真空室位于所述自動進給機構的
左側，所述水冷陰極、所述水冷消耗陽極和所述陽極轉盤均設置在所述真
空室內，所述水冷陰極位于所述真空室左端，所述水冷消耗陽極位于所述
真空室右端，所述水冷消耗陽極的一端靠近所述水冷陰極，所述水冷消耗
陽極的另一端固定在所述陽極轉盤上，所述陽極轉盤與所述自動進給機構
連接。
2.如權利要求1所述的碳納米材料制備電弧爐，其特征在于，所述
接料倉位于所述...
【專利技術屬性】
技術研發人員：渠洪波，
申請(專利權)人：沈陽科友真空技術有限公司，
類型：新型
國別省市：遼寧;21
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