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    一種強反射表面高光去除方法技術(shù)

    技術(shù)編號:13306610 閱讀:366 留言:0更新日期:2016-07-10 01:52
    本發(fā)明專利技術(shù)屬于三維結(jié)構(gòu)光測量領(lǐng)域,具體涉及一種強反射表面高光去除方法;該方法首先建立待處理圖像信息模型,然后建立待處理圖像漫反射與強反射色度模型,再依次建立歸一化圖像模型,建立非強反射圖像模型,確定強反射像素點,最后處理強反射像素區(qū)域;以上七個步驟,功能上彼此支持,它們的組合,實現(xiàn)了對于陶瓷、金屬等紋理特征較弱的強反射物體,在去除高光的同時不會改變高光部分像素的顏色信息,處理效果明顯改善的技術(shù)效果。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)屬于三維結(jié)構(gòu)光測量領(lǐng)域,具體涉及一種強反射表面高光去除方法
    技術(shù)介紹
    上世紀70年代以來,編碼光三維測量技術(shù)在高速檢測、產(chǎn)品開發(fā)、質(zhì)量控制、反求工程等領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用和發(fā)展,其具有高精度、高效率、非接觸等優(yōu)點。在編碼光三維測量中,需要在物體表面投射條紋,條紋攜帶了物體表面的三維信息,條紋的灰度變化反映了物體表面輪廓的變化。然而在實際工業(yè)測量中,條紋截面的灰度變化會受到很多因素的干擾,其中高光是影響最為強烈的一個因素。高光的存在不僅可能會使相機飽和,丟失條紋灰度變化信息,而且還將改變原有漫反射條紋的灰度分布,從而影響條紋中心提取的準確性。去高光問題目前已是利用光學(xué)方法測量金屬陶瓷等強反射物體所面臨的一個難點與共性問題。大部分圖像高光去除方法首先都需要對所處理的圖像進行圖像分割的預(yù)處理過程,然而圖像分割方法對于材質(zhì)與高光顏色相近的陶瓷等強反射物體,其魯棒性往往不高,通常還需要借助人工的輔助來進行高光區(qū)域檢測。RobbyT.Tan采用反射分量分離方法構(gòu)建反射模型,無需圖像分割,能夠自動準確的檢測出高光區(qū)域(參見《SeparatingReflectionComponentsofTexturedSurfacesUsingaSingleImage》:RobbyT.Tan.IEEEtransactionsonPatternAnalysisandMachineIntelligence,2005,2:870-877.),該方法對于紋理表面比較豐富的弱反射物體具有很好的處理效果,而對于陶瓷、金屬等紋理特征較弱的強反射物體,在去除高光的同時也會改變高光部分像素的顏色信息,處理效果不理想。
    技術(shù)實現(xiàn)思路
    針對上述問題,本專利技術(shù)公開了一種強反射表面高光去除方法,該方法對于陶瓷、金屬等紋理特征較弱的強反射物體,在去除高光的同時不會改變高光部分像素的顏色信息,處理效果明顯改善。本專利技術(shù)的目的是這樣實現(xiàn)的:一種強反射表面高光去除方法,包括以下步驟:步驟a、建立待處理圖像信息模型;步驟b、建立待處理圖像漫反射與強反射色度模型;步驟c、建立歸一化圖像模型;步驟d、建立非強反射圖像模型;步驟e、確定強反射像素點;步驟f、處理強反射像素區(qū)域。上述強反射表面高光去除方法,包括以下步驟:步驟a、建立待處理圖像信息模型待處理圖像表示為:AR(X)=α(X)∫ΩT(λ,X)B(λ)QR(λ)dλ+β(X)∫ΩB(λ)QR(λ)dλAG(X)=α(X)∫ΩT(λ,X)B(λ)QG(λ)dλ+β(X)∫ΩB(λ)QG(λ)dλAB(X)=α(X)∫ΩT(λ,X)B(λ)QB(λ)dλ+β(X)∫ΩB(λ)QB(λ)dλ其中,A(X)為圖像強度,α(X)為漫反射加權(quán)因子,β(X)為強反射加權(quán)因子,X={x,y本文檔來自技高網(wǎng)
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    一種強反射表面高光去除方法

    【技術(shù)保護點】
    一種強反射表面高光去除方法,其特征在于,包括以下步驟:步驟a、建立待處理圖像信息模型;步驟b、建立待處理圖像漫反射與強反射色度模型;步驟c、建立歸一化圖像模型;步驟d、建立非強反射圖像模型;步驟e、確定強反射像素點;步驟f、處理強反射像素區(qū)域。

    【技術(shù)特征摘要】
    1.一種強反射表面高光去除方法,其特征在于,包括以下步驟:
    步驟a、建立待處理圖像信息模型;
    步驟b、建立待處理圖像漫反射與強反射色度模型;
    步驟c、建立歸一化圖像模型;
    步驟d、建立非強反射圖像模型;
    步驟e、確定強反射像素點;
    步驟f、處理強反射像素區(qū)域。
    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的強反射表面高光去除方法,其特征在于,包括以下步驟:
    步驟a、建立待處理圖像信息模型

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:孫曉明,于曉洋,車暢,劉野,潘宗瑋,
    申請(專利權(quán))人:哈爾濱理工大學(xué),
    類型:發(fā)明
    國別省市:黑龍江;23

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