一種工作波段為4100-5200nm的中紅外帶通濾光片制造技術(shù)

本實(shí)用新型專利技術(shù)公開了一種工作波段為4100-5200nm的中紅外帶通濾光片，包括正面膜系、基片和背面膜系，所述正面膜系由一氧化硅層和鍺膜層交替疊加組成，所述一氧化硅層和鍺膜層共24層；所述背面膜系由一氧化硅層和鍺膜層交替疊加組成，所述一氧化硅層和鍺膜層共28層。本實(shí)用新型專利技術(shù)中的紅外帶通濾光片，在工作波段4100-5200nm內(nèi)有高的透過(guò)率，而在其它波段高度截止。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及一種帶通濾光片，特別涉及一種工作波段為4100-5200nm的中紅外帶通濾光片。
技術(shù)介紹
帶通濾光片是一種對(duì)某一波段具有高的透射率，而對(duì)其兩端的波段高度截止的濾光片。中紅外帶通濾光片是在中紅外波長(zhǎng)范圍內(nèi)，在中心波長(zhǎng)有較高的透過(guò)率，而在其余波段截止。其主要應(yīng)用在紅外光譜探測(cè)系統(tǒng)，在航天領(lǐng)域有非常重要的應(yīng)用。隨著空間紅外技術(shù)的發(fā)展，對(duì)紅外帶通濾光片的波形要求也越來(lái)越高，需要能夠有效濾除背景雜散信號(hào)，提高探測(cè)系統(tǒng)的信噪比。另外，除了對(duì)濾光片光學(xué)特性的高要求，在空間
對(duì)紅外濾光片膜層可靠性也有極高的要求，目前可供選擇的紅外濾光片膜層材料品種很少，在制備時(shí)仍有很大的難度。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本技術(shù)為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種工作波段為4100-5200nm的中紅外帶通濾光片。為達(dá)到上述目的，本技術(shù)采用如下的技術(shù)方案：一種工作波段為4100-5200nm的中紅外帶通濾光片，包括正面膜系、基片和背面膜系，所述正面膜系由一氧化硅層和鍺膜層交替疊加組成，所述一氧化硅層和鍺膜層共24層；所述背面膜系由一氧化硅層和鍺膜層交替疊加組成，所述一氧化硅層和鍺膜層共28層。進(jìn)一步的，所述基片為鍺基片，所述基片厚度為0.3mm。相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)，本技術(shù)的有益效果為：本技術(shù)中的紅外帶通濾光片，在工作波段4.1-5.2微米內(nèi)有高的透過(guò)率，而在其它波段高度截止。附圖說(shuō)明圖1為本技術(shù)一實(shí)施例所述的工作波段為4100-5200nm的中紅外帶通濾光片的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本技術(shù)一實(shí)施例所述的正面膜系透過(guò)率曲線圖；圖3為本技術(shù)一實(shí)施例所述的反面膜系透過(guò)率曲線圖；圖4為本技術(shù)一實(shí)施例所述的工作波段為4100-5200nm的中紅外帶通濾光片的透過(guò)率曲線透過(guò)率曲線圖。附圖標(biāo)記1-正面膜系；2-基片；3-背面膜系。具體實(shí)施方式下面結(jié)合附圖對(duì)本技術(shù)做進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明，以令本領(lǐng)域技術(shù)人員參照說(shuō)明書文字能夠據(jù)以實(shí)施。一種工作波段為4100-5200nm的中紅外帶通濾光片，包括正面膜系1、基片2和背面膜系3，所述正面膜系1由一氧化硅層和鍺膜層交替疊加組成，所述一氧化硅層和鍺膜層共24層；所述背面膜系3由一氧化硅層和鍺膜層交替疊加組成，所述一氧化硅層和鍺膜層共28層。所述基片2為鍺基片，所述基片厚度為0.3mm，所述鍺基片兩面拋光，兩個(gè)面上分別鍍制正面膜系和反面膜系。作為本技術(shù)的一實(shí)施例，正面膜系1中λ＝6.7μm，H為λ0/4的鍺膜層，L代表厚度為λ0/4的一氧化硅層。其中正面膜系1的主要構(gòu)成如下：0.2H0.096L0.255H1.151L1.079H1.02L1.003H0.99L0.989H0.982L0.985H0.978L0.985H0.977L0.987H0.98L0.991H0.986L1.001H1L1.028H1.044L1.074H0.536L正面膜系1透過(guò)率曲線如圖2所示。反面膜系3中λ＝3.035μm，H為λ0/4的鍺膜層，L為代表厚度為λ0/4的一氧化硅膜層。反面膜系3的主要構(gòu)成如下：0.2H0.265L1.436H0.545L1.326H0.743L1.109H0.966L0.999H0.965L1.081H0.919L1.029H0.86L0.685H0.292L0.628H0.753L0.765H0.595L0.283H0.792L0.856H0.54L0.676H0.24L0.724H1.921L反面膜系3透過(guò)率曲線如圖3所述。當(dāng)正面膜系和反面膜系鍍于基板上時(shí)，最終得到的中紅外帶通濾光片的透過(guò)率曲線如圖4所示。該濾光片在可見光-3.7μm，絕對(duì)透過(guò)率≤1.0％；在3.8-3.9μm范圍內(nèi)，透過(guò)率≤5.0％；在4.05-4.15μm和在5.2-5.35μm范圍內(nèi)，透過(guò)率＝50％；在4.35-4.85μm范圍內(nèi)，絕對(duì)透過(guò)率≥90％；在4.95μm處，透過(guò)率≥80％；在5.4-6μm范圍內(nèi)，透過(guò)率≤5.0％。本專利中的紅外帶通濾光片，在工作波段4.1-5.2微米內(nèi)有高的透過(guò)率，而在其它波段高度截止。盡管本技術(shù)的實(shí)施方案已公開如上，但其并不僅僅限于說(shuō)明書和實(shí)施方式中所列運(yùn)用，它完全可以被適用于各種適合本技術(shù)的領(lǐng)域，對(duì)于熟悉本領(lǐng)域的人員而言，可容易地實(shí)現(xiàn)另外的修改，因此在不背離權(quán)利要求及等同范圍所限定的一般概念下，本技術(shù)并不限于特定的細(xì)節(jié)和這里示出與描述的圖例。本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種工作波段為4100?5200nm的中紅外帶通濾光片，其特征在于包括正面膜系、基片和背面膜系，所述正面膜系由一氧化硅層和鍺膜層交替疊加組成，所述一氧化硅層和鍺膜層共24層；所述背面膜系由一氧化硅層和鍺膜層交替疊加組成，所述一氧化硅層和鍺膜層共28層。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種工作波段為4100-5200nm的中紅外帶通濾光片，其特征在于包括正面膜系、基片和背面膜系，所述正面膜系由一氧化硅層和鍺膜層交替疊加組成，所述一氧化硅層和鍺膜層共24層；所述背面膜系由一氧化硅層和...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：周東平，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：蘇州晶鼎鑫光電科技有限公司，
類型：新型
國(guó)別省市：江蘇;32