原位引入聚丁二酸丁二醇酯納米片制備全降解型高強高阻隔聚乳酸薄膜制造技術

本發明專利技術公開了一種全降解型高強高阻隔聚乳酸薄膜的制備方法。該方法是首先將聚乳酸與PBS在強剪切中熔融共混擠出，使PBS熔滴在基體中劇烈破碎為納米粒子，通過“狹縫擠出-熱拉伸-淬冷”技術提供的強拉伸/剪切場將PBS納米粒子轉變為納米纖維，最后利用“受限成片”方法在模壓機或雙輥連續擠壓成型裝置中將PBS納米纖維轉變為規整致密的PBS納米片，獲得含PBS納米片的聚乳酸高強高阻隔薄膜。本發明專利技術制備的含PBS納米片的聚乳酸薄膜制品一方面保留了PBS和聚乳酸的良好生物降解性能，另一方面大量取向伸直的PBS納米片可以阻擋氣體/水分子的滲入并充當自增強結構單元，獲得了力學性能和阻隔性能的同時提高。

【技術實現步驟摘要】
201410718281

【技術保護點】
原位引入聚丁二酸丁二醇酯納米片制備全降解型高強高阻隔聚乳酸薄膜的步驟如下：(1)原料干燥：將聚乳酸和聚丁二酸丁二醇酯(以下簡稱PBS)充分干燥，使水分重量含量少于0.01％；(2)熔融共混擠出：將所得干燥聚乳酸(95～5wt％)與PBS(5～95wt％)在雙螺桿擠出機中在100～170℃下熔融共混擠出，在擠出共混過程中使用高的喂料速度(50～300g/min)以減少物料在螺桿中的停留時間，同時配合較高的螺桿轉速(150～300rpm)以增加對物料剪切和拉伸效果，最后將擠出的料條暴露在冷空氣中充分冷卻后切粒；(3)“狹縫擠出?熱拉伸?淬冷”原位形成PBS纖維：將聚乳酸/PBS共混擠出料充分干燥，使水分重量含量少于0.01％，然后將干燥后的共混物粒料通過“狹縫擠出?熱拉伸?淬冷”工藝擠出獲得復合片材，加工溫度為100?200℃，拉伸比為2～10；(4)“受限成片”方法成型聚乳酸薄膜：將步驟3中得到的原位納纖復合材料充分干燥，使水分重量含量少于0.01％，隨后將干燥后的納纖復合材料置于擠壓受限成型設備(例如，模壓機或雙棍連續滾壓機)上進行成型為聚乳酸薄膜，成型溫度為160?200℃，成型壓力為0.5?50MPa，最終得到的全降解型聚乳酸薄膜厚度為20?500微米。以上所用物料的份數均為重量份。...

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：謝蘭，徐歡，陳晶斌，
申請(專利權)人：謝蘭，徐歡，陳晶斌，
類型：發明
國別省市：四川;51