光硬化性涂布組成物、光硬化涂布膜及觸控面板制造技術

本發明專利技術提供一種光硬化性涂布組成物、光硬化涂布膜及觸控面板，光硬化性涂布組成物包括光硬化性聚合物，其至少由式(I)所示的化合物、式(II)所示的化合物以及式(III)所示的化合物經水解縮合反應而得；從而具有良好光硬化性。M表示硅、鈦、鉭、鋯、硼、鋁、鎂或鋅；Ra、Rc及Re分別表示碳數1～5的直鏈或支鏈的烷基；n為2～5的整數；Rb表示碳數2～10的烯基、具有丙烯酰氧基的碳數1～5的烷基或具有甲基丙烯酰氧基的碳數1～5的烷基；Rd表示碳數1～15的直鏈或支鏈的亞烷基；X表示一價至六價的有機基；Y表示氫原子或式(IV)所示的基團；p為1～4的整數。

【技術實現步驟摘要】
201510353807

【技術保護點】
一種光硬化性涂布組成物，其特征在于，包括：光硬化性聚合物，為至少由式(I)所示的化合物、式(II)所示的化合物以及式(III)所示的化合物經水解縮合反應而得：M(ORa)n???式(I)式(I)中，M表示硅、鈦、鉭、鋯、硼、鋁、鎂或鋅；Ra表示碳數1～5的直鏈或支鏈的烷基；n為2～5的整數，RbSi(ORc)3???式(II)式(II)中，Rb表示碳數2～10的烯基、具有丙烯酰氧基的碳數1～5的烷基或具有甲基丙烯酰氧基的碳數1～5的烷基；Rc表示碳數1～5的直鏈或支鏈的烷基，式(III)中，X表示一價至六價的有機基；Y表示氫原子或式(IV)所示的基團；p為1～4的整數；當p為1時，Y表示式(IV)所示的基團，當p為2～4時，Y中的至少一個為式(IV)所示的基團，式(IV)中，Rd表示碳數1～15的直鏈或支鏈的亞烷基；Re分別表示碳數1～5的直鏈或支鏈的烷基，以所述式(I)所示的化合物、所述式(II)所示的化合物以及所述式(III)所示的化合物的總量為100重量份計，所述式(I)所示的化合物的含量為50重量份至85重量份，所述式(II)所示的化合物的含量為10重量份至45重量份，所述式(III)所示的化合物的含量為5重量份至40重量份。...

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：黃昱豪，
申請(專利權)人：奇美實業股份有限公司，
類型：發明
國別省市：中國臺灣;71