本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種多功能燈罩及其制造方法，該燈罩包括基片，基片的外表面從里到外依序設(shè)有第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層、第五膜層、第六膜層、第七膜層、第八膜層、第九模層、第十膜層和第十一膜層；第一膜層、第三膜層和第五膜層均為五氧化三鈦層，第二膜層、第四膜層和第六膜層均為二氧化硅層，第七膜層為金屬層，第八膜層為納米銀層，第九膜層為ITO層，第十膜層為高硬度層，第十一膜層為氟化物層。其制造方法包括以下步驟：1）對基片進(jìn)行清洗；2）對基片的外表面進(jìn)行鍍膜。本發(fā)明專利技術(shù)的燈罩能有效地過濾有害藍(lán)光，對炫光的過濾能有效緩解視覺疲勞，擁有殺菌、防輻射以及防水油污等功能。
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及一種燈罩
，尤其是涉及。
技術(shù)介紹
隨著社會的進(jìn)步和科技的發(fā)展，照明設(shè)備已廣泛進(jìn)入人們的工作和生活中，隨著人們對照明設(shè)備(如燈具)的使用時間的日益增長，這些燈具所發(fā)出的藍(lán)光、紫外線、炫目光對眼睛視力的傷害越來越嚴(yán)重。藍(lán)光是波長為400-500nm的高能量可見光，藍(lán)光是可以直接穿透眼角膜、眼睛晶體、直達(dá)視網(wǎng)膜，藍(lán)光會刺激視網(wǎng)膜產(chǎn)生大量自由基離子，使得視網(wǎng)膜色素上皮細(xì)胞的萎縮，并引起光敏感細(xì)胞的死亡，視網(wǎng)膜色素上皮細(xì)胞對藍(lán)光區(qū)域的光輻射吸收作用很強(qiáng)，吸收了藍(lán)光輻射會使視網(wǎng)膜色素上皮細(xì)胞萎縮，這也是產(chǎn)生黃斑病變的主要原因之一；藍(lán)光輻射成分越高對視覺細(xì)胞傷害越大，視網(wǎng)膜色素上皮細(xì)胞的萎縮，會使視網(wǎng)膜的圖像變得模糊，對模糊的影像睫狀肌會在做不斷的調(diào)節(jié)，加重睫狀肌的工作強(qiáng)度，引起視覺疲勞。在紫外線和藍(lán)光的作用下會引起人們的視覺疲勞，視力會逐漸下降，易引起眼睛視覺上的干澀、畏光、疲勞等早發(fā)性白內(nèi)障、自發(fā)性黃斑部病變。目前，通過在燈具外設(shè)置燈罩，用以聚光、防風(fēng)雨以及解決上述問題，但是現(xiàn)有的燈罩過濾藍(lán)光的效果并不理想，另外，現(xiàn)有的燈罩較少有殺菌、防輻射的功能，人們長期暴露在燈光環(huán)境中，身體健康受到了極大的影響。此外，環(huán)境中的油污和水漬很容易在燈罩上留下痕跡，這些痕跡又很不容易清除，嚴(yán)重影響了燈罩的外觀。因此，市場上迫切需要出現(xiàn)一種帶有防藍(lán)光、防炫目、殺菌、防輻射功能的燈罩來取代現(xiàn)有的傳統(tǒng)燈罩。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種可有效防止藍(lán)光對人體的傷害，具有防炫目、防輻射、殺菌功能，適于夜間使用的多功能燈罩及其制造方法。為實現(xiàn)上述目的，本專利技術(shù)采用以下技術(shù)方案: 一種多功能燈罩，包括基片，所述基片的外表面從里到外依序設(shè)有第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層、第五膜層、第六膜層、第七膜層、第八膜層、第九模層、第十膜層和第十一膜層;所述第一膜層、第三膜層和第五膜層均為五氧化三鈦層，厚度均為1-1OOnm;所述第二膜層、第四膜層和第六膜層均為二氧化硅層，厚度均為50-100nm;所述第七膜層為金屬層，厚度為5-20nm;所述第八膜層為納米銀層，第八膜層的厚度為5_20nm;所述第九膜層為ITO層，第九膜層的厚度為1-1OOnm;所述第十膜層為高硬度層，厚度為10-50nm;所述第i 膜層為氟化物層，第i 膜層的厚度為3-10nm。所述金屬層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅、鎳、金合金、銀合金、鉑合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，并由電子槍蒸鍍成型。所述納米銀層的膜材為銀的氧化物，并由電子槍蒸鍍成型，所述銀的氧化物為Ag2〇、Ag0 或 Ag2〇3。所述氟化物層為電阻加熱蒸鍍成型的氟化鎂層。所述高硬度層的膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體，并由電子槍蒸鍍成型。所述基片由樹脂或玻璃成型。所述燈罩的基片由樹脂成型時，該多功能燈罩的制造方法具體包括以下步驟: 1)對基片進(jìn)行清洗、干燥； 2)對基片的外表面進(jìn)行鍍膜； A、鍍第一膜層: 將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至小于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50_70°C，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于基片的外表面，同時控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第一膜層最終形成后的厚度為1-1OOnm;其中，所述第一膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層； B、鍍第二膜層: 保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面，同時控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S，第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm;其中，所述第二膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層； C、鍍第三膜層: 保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第三膜層的膜材，第三膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面，同時控制第三膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第三膜層最終形成后的厚度為1-1OOnm;其中，所述第三膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層； D、鍍第四膜層: 保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第四膜層的膜材，第四膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟C中第三膜層的表面，同時控制第四膜層蒸鍍的速率為7A/S，第四膜層最終形成后的厚度為50-100nm;其中，所述第四膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層； E、鍍第五膜層: 保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第五膜層的膜材，第五膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟D中第四膜層的表面，同時控制第五膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第五膜層最終形成后的厚度為1-1OOnm;其中，所述第五膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層； F、鍍第六膜層: 保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第六膜層的膜材，第六膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟E中第五膜層的表面，同時控制第六膜層蒸鍍的速率為7A/S，第六膜層最終形成后的厚度為50-100nm;其中，所述第六膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層； G、鍍第七膜層:保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第七膜層的膜材，第七膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟F中第六膜層的表面，同時控制第七膜層蒸鍍的速率為1A/S，第七膜層最終形成后的厚度為5_20nm，其中第七膜層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅、鎳、金合金、銀合金、鉑合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，形成金屬層； H、鍍第八膜層: 保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度大于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第八膜層的膜材，其中第八膜層的膜材為銀的氧化物，在電子槍蒸鍍的作用下，銀的氧化物分解以納米銀的形式附著于上述步驟G中第七膜層的表面，同時控制第八膜層蒸鍍的速率為1A/S，第八膜層最終形成厚度為5-20nm的納米銀層;其中所述銀的氧化物為Ag2O、AgO或Ag2O3 ； 1、鍍第九膜層: 將真空鍍膜艙內(nèi)的真空度調(diào)整至大于或等于5.0 X 10—3帕，并控制真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第九膜層的膜材，第九膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟H中第八膜層的表面，同時控制第九膜層蒸鍍的速率為1A/S，第九膜層最終形成后的厚度為lO-lOOnm，其中第九膜層的膜材為ITO材料，形成ITO層； J、鍍第十膜層: 保持真空鍍膜艙內(nèi)的真空度小于或等于5.0 X 10—3帕，同時保持真空鍍膜艙內(nèi)的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第十膜層的本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點】
一種多功能燈罩，包括基片，其特征在于：所述基片的外表面從里到外依序設(shè)有第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層、第五膜層、第六膜層、第七膜層、第八膜層、第九模層、第十膜層和第十一膜層；所述第一膜層、第三膜層和第五膜層均為五氧化三鈦層，厚度均為10?100nm；所述第二膜層、第四膜層和第六膜層均為二氧化硅層，厚度均為50?100nm；所述第七膜層為金屬層，厚度為5?20nm；所述第八膜層為納米銀層，第八膜層的厚度為5?20nm；所述第九膜層為ITO層，第九膜層的厚度為10?100nm；所述第十膜層為高硬度層，厚度為10?50nm；所述第十一膜層為氟化物層，第十一膜層的厚度為3?10nm。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：吳曉彤，方俊勇，
申請(專利權(quán))人：奧特路漳州光學(xué)科技有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：福建;35
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