本案公開(kāi)了一種絕緣鏡板的制備工藝，包括：將鋁板浸入裝有電解液的電解槽中，所述鋁板作陽(yáng)極，以不銹鋼板作陰極，在設(shè)定條件下進(jìn)行微弧氧化以使得所述鋁板表面形成氧化膜，所述設(shè)定條件具體為：電壓范圍200～600V，電流密度10～18A/dm2，電解液溫度為20～45℃，反應(yīng)時(shí)間為10～30min；所述電解液包括：硼酸鈉15～25g/L，鉬酸銨2～4g/L，氟鈦酸鉀3～5g/L。本案采用微弧氧化工藝可以在鋁板表面形成一層致密的氧化膜層，該氧化膜層可以使得絕緣鏡板能夠?qū)崿F(xiàn)在高溫高壓力被熱壓時(shí)保證高頻次的使用，不脹縮，表面平整耐磨，不凹陷。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專(zhuān)利技術(shù)設(shè)及一種絕緣鏡板的制備工藝，具體設(shè)及一種基于微弧氧化的絕緣鏡板的 制備工藝。
技術(shù)介紹
在制造生產(chǎn)線(xiàn)路板（PCB)的主體基材時(shí)，需要使用電壓機(jī)來(lái)將多層不同的材料進(jìn) 行壓合，運(yùn)種電壓機(jī)的工作原理是通過(guò)銅錐(或侶錐）導(dǎo)電加熱被加工的膠粘樹(shù)脂材料，并 通過(guò)施加一定壓力將多層材料壓合至少半小時(shí)，從而制得線(xiàn)路板基材，而在使用電壓機(jī)壓 合過(guò)程中，出于成本考慮，單次壓合操作往往需要同時(shí)壓合多片線(xiàn)路板基材，而為了使多片 線(xiàn)路板基材在壓合時(shí)，彼此不被影響，需要將它們疊合，并在它們之間插入一種特制的絕緣 板，它具有絕緣，傳熱，支撐及分離的作用，運(yùn)種特制的具有超高平整度的絕緣板被稱(chēng)作為 鏡板。 鏡板與普通絕緣板最大的區(qū)別就是其表面有一種致密的氧化膜，該氧化膜層對(duì)鏡 板的性能有著極大的影響，在壓合工藝中，對(duì)鏡板的性能要求十分高，電壓機(jī)在操作時(shí)，既 產(chǎn)生高溫?zé)崃?大于300°C)，又有很強(qiáng)的壓力（大于50MPa)，運(yùn)就需要鏡板具備出色的耐熱 壓性能，即鏡板需要具有很高的極限耐受溫度和極限耐受壓強(qiáng)，并且，更為重量的是，鏡板 的表面須在經(jīng)過(guò)多次熱壓后依然能保持十分的平整光滑，表面沒(méi)有凹陷，不發(fā)生脹縮，而目 前在現(xiàn)有工藝中還無(wú)法實(shí)現(xiàn)運(yùn)一要求，現(xiàn)有技術(shù)的鏡板一般在常溫下約能使用100次左右 后，其表面就開(kāi)始出現(xiàn)凹陷，導(dǎo)致鏡板失效，而在高溫下也僅能使用約50次就已失效。而在 現(xiàn)有技術(shù)無(wú)法滿(mǎn)足運(yùn)一要求的另一原因是運(yùn)種氧化膜的噴涂工藝還未成熟。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足之處，本專(zhuān)利技術(shù)的目的在于提供一種絕緣鏡板的制備工藝，由 該工藝生產(chǎn)出的鏡板能夠?qū)崿F(xiàn)在高溫高壓力熱壓時(shí)保證高頻次的使用，不脹縮，表面平整 耐磨，不凹陷。 陽(yáng)0化]本專(zhuān)利技術(shù)的技術(shù)方案概述如下： 一種絕緣鏡板的制備工藝，包括：將侶板浸入裝有電解液的電解槽中，所述侶板作陽(yáng) 極，W不誘鋼板作陰極，在設(shè)定條件下進(jìn)行微弧氧化W使得所述侶板表面形成氧化膜，所述 設(shè)定條件具體為：電壓范圍200~600V，電流密度10~18A/dm2,電解液溫度為20~45°C， 反應(yīng)時(shí)間為10~30min; 所述電解液包括：棚酸鋼15~25g/l，鋼酸錠2~4旨/1，氣鐵酸鐘3~5g/L。 優(yōu)選的是，所述的絕緣鏡板的制備工藝，其中，所述電解液的抑為8~12。 優(yōu)選的是，所述的絕緣鏡板的制備工藝，其中，所述電解液還包括氣化鐘1~2g/ L。 優(yōu)選的是，所述的絕緣鏡板的制備工藝，其中，所述電解液還包括氧化侶粉體 0. 5 ~0.8g/L。 優(yōu)選的是，所述的絕緣鏡板的制備工藝，其中，所述電解液還包括丙Ξ醇5~7g/ L。 本專(zhuān)利技術(shù)的有益效果是：采用微弧氧化工藝可W在侶板表面形成一層致密的氧化膜 層，該氧化膜層可W使得絕緣鏡板能夠?qū)崿F(xiàn)在高溫高壓力被熱壓時(shí)保證高頻次的使用，不 脹縮，表面平整耐磨，不凹陷?！揪唧w實(shí)施方式】 下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本專(zhuān)利技術(shù)做進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明，W令本領(lǐng)域技術(shù)人員參照說(shuō)明書(shū) 文字能夠據(jù)W實(shí)施。 本案提出一實(shí)施例的絕緣鏡板的制備工藝，包括：將侶板浸入裝有電解液的電解 槽中，W侶板作陽(yáng)極，W不誘鋼板作陰極，在設(shè)定條件下進(jìn)行微弧氧化W使得侶板表面形成 致密的氧化膜，該設(shè)定條件具體為：電壓范圍200~600V，電流密度10~18A/dm2,電解液 溫度為20~45°C，反應(yīng)時(shí)間為10~30min; 電解液包括：棚酸鋼15~25g/l，鋼酸錠2~4旨/1，氣鐵酸鐘3~5g/L。[001引在上述實(shí)施例中，電解液的抑優(yōu)選為8~12。抑的調(diào)節(jié)方式不受限定，可W采用 氨氧化鐘、氨氧化鋼等常規(guī)的無(wú)機(jī)堿進(jìn)行調(diào)節(jié)。 在上述實(shí)施例中，電解液還包括氣化鐘1~2g/L。氣化鐘的作用是控制氧化膜層 的密實(shí)度。 在上述實(shí)施例中，電解液還包括氧化侶粉體0. 5~0.8g/L。氧化侶粉體的作用是 控制氧化膜的形成速率。 在上述實(shí)施例中，電解液還包括丙Ξ醇5~7g/L。丙Ξ醇的作用是穩(wěn)定劑。 表一列出采用不同電解液所獲得的絕緣鏡板的性能參數(shù)。 盡管本專(zhuān)利技術(shù)的實(shí)施方案已公開(kāi)如上，但其并不僅僅限于說(shuō)明書(shū)和實(shí)施方式中所列 運(yùn)用，它完全可W被適用于各種適合本專(zhuān)利技術(shù)的領(lǐng)域，對(duì)于熟悉本領(lǐng)域的人員而言，可容易地 實(shí)現(xiàn)另外的修改，因此在不背離權(quán)利要求及等同范圍所限定的一般概念下，本專(zhuān)利技術(shù)并不限 于特定的細(xì)節(jié)?！局鳈?quán)項(xiàng)】1. 一種絕緣鏡板的制備工藝，包括：將鋁板浸入裝有電解液的電解槽中，所述鋁板作 陽(yáng)極，以不銹鋼板作陰極，在設(shè)定條件下進(jìn)行微弧氧化以使得所述鋁板表面形成氧化膜， 所述設(shè)定條件具體為：電壓范圍200~600V，電流密度10~18A/dm2,電解液溫度為20~ 45°C，反應(yīng)時(shí)間為10~30min; 所述電解液包括：硼酸鈉15~25g/L，鉬酸銨2~4g/L，氟鈦酸鉀3~5g/L。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的絕緣鏡板的制備工藝，其特征在于，所述電解液的pH為8~ 12。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的絕緣鏡板的制備工藝，其特征在于，所述電解液還包括氟化 鉀1~2g/L。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的絕緣鏡板的制備工藝，其特征在于，所述電解液還包括氧化 鋁粉體0· 5~0· 8g/L。5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的絕緣鏡板的制備工藝，其特征在于，所述電解液還包括丙三 醇5~7g/L。【專(zhuān)利摘要】本案公開(kāi)了一種絕緣鏡板的制備工藝，包括：將鋁板浸入裝有電解液的電解槽中，所述鋁板作陽(yáng)極，以不銹鋼板作陰極，在設(shè)定條件下進(jìn)行微弧氧化以使得所述鋁板表面形成氧化膜，所述設(shè)定條件具體為：電壓范圍200～600V，電流密度10～18A/dm2，電解液溫度為20～45℃，反應(yīng)時(shí)間為10～30min；所述電解液包括：硼酸鈉15～25g/L，鉬酸銨2～4g/L，氟鈦酸鉀3～5g/L。本案采用微弧氧化工藝可以在鋁板表面形成一層致密的氧化膜層，該氧化膜層可以使得絕緣鏡板能夠?qū)崿F(xiàn)在高溫高壓力被熱壓時(shí)保證高頻次的使用，不脹縮，表面平整耐磨，不凹陷?！綢PC分類(lèi)】C25D11/06【公開(kāi)號(hào)】CN105332031【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510910665【專(zhuān)利技術(shù)人】沈金明 【申請(qǐng)人】蘇州市嘉明機(jī)械制造有限公司【公開(kāi)日】2016年2月17日【申請(qǐng)日】2015年12月10日本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種絕緣鏡板的制備工藝，包括：將鋁板浸入裝有電解液的電解槽中，所述鋁板作陽(yáng)極，以不銹鋼板作陰極，在設(shè)定條件下進(jìn)行微弧氧化以使得所述鋁板表面形成氧化膜，所述設(shè)定條件具體為：電壓范圍200～600V，電流密度10～18A/dm2，電解液溫度為20～45℃，反應(yīng)時(shí)間為10～30min；所述電解液包括：硼酸鈉15～25?g/L，鉬酸銨2～4?g/L，氟鈦酸鉀3～5?g/L。
【技術(shù)特征摘要】
【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：沈金明，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：蘇州市嘉明機(jī)械制造有限公司，
類(lèi)型：發(fā)明
國(guó)別省市：江蘇;32
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