一種加固型地基結構，包含基樁結構和設置在基樁結構上的樁板結構，樁板結構包含若干樁板，樁板包含樁板主體和設置在樁板主體端部的端頭暗梁，相鄰樁板之間間隔設置，形成樁板間伸縮縫，基樁結構包含若干設置在樁板主體下方的樁板支撐基樁組件和若干設置在樁板間伸縮縫和端頭暗梁下方的樁板縫隙支撐基樁組件，樁板支撐基樁組件包含若干基樁和若干對應設置在基樁頂端的樁帽，樁板縫隙支撐基樁組件包含設置在板間伸縮縫和端頭暗梁下方的蓋梁、以及若干設置在蓋梁下方的基樁，基樁為嵌巖樁，基樁底端進入強風化巖層或中風化巖層。本發明專利技術加大了地基結構的深度，加固了地基結構的強度，避免地基結構發生沉降。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及一種加固型地基結構。
技術介紹
現有的粧基加固地基型式，主要為微型粧加固，粧身直徑不大于300mm，一般按復合地基設計，地基土和粧共同承擔上部荷載。對上覆軟弱土層、下臥基巖的地質條件，在荷載作用下，仍會發生一定量的沉降，對于一些工期緊且對地基變形要求很高的工程，很難滿足要求。
技術實現思路
本專利技術提供一種加固型地基結構，加大了地基結構的深度，加固了地基結構的強度，避免地基結構發生沉降。為了達到上述目的，本專利技術提供一種加固型地基結構，包含基粧結構和設置在基粧結構上的粧板結構； 所述的粧板結構包含若干粧板，所述的粧板包含粧板主體和設置在粧板主體端部的端頭暗梁，相鄰粧板之間間隔設置，形成粧板間伸縮縫； 所述的基粧結構包含若干設置在粧板主體下方的粧板支撐基粧組件和若干設置在粧板間伸縮縫和端頭暗梁下方的粧板縫隙支撐基粧組件； 所述的粧板支撐基粧組件包含若干基粧和若干對應設置在基粧頂端的粧帽； 所述的粧板縫隙支撐基粧組件包含設置在板間伸縮縫和端頭暗梁下方的蓋梁、以及若干設置在蓋梁下方的基粧； 所述的基粧為嵌巖粧，基粧底端進入強風化巖層或中風化巖層。所述的粧板采用沒有框架梁和次梁的等厚度鋼筋混凝土平板。所述的粧帽與基粧剛性連接，粧帽作為粧板的支撐座，與基粧一起支撐粧板主體。相鄰兩塊粧板的端頭暗梁同時擱置在蓋梁上，基粧與蓋梁一起支撐粧板主體端部的端頭暗梁。本專利技術加大了地基結構的深度，加固了地基結構的強度，避免地基結構發生沉降，對上覆軟弱土層、下臥基巖的地質條件，有良好的適用性和經濟性。【附圖說明】圖1是本專利技術的俯視圖。圖2是圖1中1-1向的剖視圖。圖3是圖1中A-A向的剖視圖。圖4是圖1中B-B向的剖視圖。【具體實施方式】以下根據圖1?圖4，具體說明本專利技術的較佳實施例。如圖1?圖4所示，本專利技術提供一種加固型地基結構，包含基粧結構和設置在基粧結構上的粧板結構。所述的粧板結構包含若干粧板2，所述的粧板2包含粧板主體202和設置在粧板主體202端部的端頭暗梁201，相鄰粧板2之間間隔設置，形成粧板間伸縮縫3，所述的粧板2采用沒有框架梁和次梁的等厚度鋼筋混凝土平板。所述的基粧結構包含粧板支撐基粧組件和粧板縫隙支撐基粧組件。所述的粧板支撐基粧組件位于粧板主體202下方，所述的粧板縫隙支撐基粧組件位于粧板間伸縮縫3下方。所述的粧板支撐基粧組件包含若干基粧101和若干對應設置在基粧101頂端的粧帽102，所述的基粧101為嵌巖粧，基粧101底端進入強風化巖層或中風化巖層，所述的粧帽102與基粧101剛性連接，粧帽102作為粧板2的支撐座，與基粧101 —起支撐粧板主體202。所述的粧板縫隙支撐基粧組件包含設置在板間伸縮縫3和端頭暗梁201下方的蓋梁103和若干設置在蓋梁103下方的基粧101，所述的基粧101為嵌巖粧，基粧101底端進入強風化巖層或中風化巖層，相鄰兩塊粧板2的端頭暗梁201同時擱置在蓋梁103上，基粧101與蓋梁103 —起支撐粧板主體202端部的端頭暗梁201。由于基粧的底端進入強風化巖層或者中風化巖層，基粧的底端位移可以忽略不計，不考慮承臺底地基土分擔荷載，基粧的底端平面以下地基土由基粧引起的附加應力產生的沉降量可以忽略不計，粧基的最終沉降量僅需考慮粧身壓縮量，因此大大減小了沉降，本專利技術進一步采用粧帽、蓋梁和粧板對基粧進行加固，避免地基結構發生沉降，對上覆軟弱土層、下臥基巖的地質條件，有良好的適用性和經濟性。盡管本專利技術的內容已經通過上述優選實施例作了詳細介紹，但應當認識到上述的描述不應被認為是對本專利技術的限制。在本領域技術人員閱讀了上述內容后，對于本專利技術的多種修改和替代都將是顯而易見的。因此，本專利技術的保護范圍應由所附的權利要求來限定。【主權項】1.一種加固型地基結構，其特征在于，包含基粧結構和設置在基粧結構上的粧板結構； 所述的粧板結構包含若干粧板(2)，所述的粧板(2)包含粧板主體(202)和設置在粧板主體(202)端部的端頭暗梁(201)，相鄰粧板(2)之間間隔設置，形成粧板間伸縮縫(3); 所述的基粧結構包含若干設置在粧板主體(202 )下方的粧板支撐基粧組件和若干設置在粧板間伸縮縫(3)和端頭暗梁(201)下方的粧板縫隙支撐基粧組件； 所述的粧板支撐基粧組件包含若干基粧(101); 所述的粧板縫隙支撐基粧組件包含設置在板間伸縮縫(3)和端頭暗梁(201)下方的蓋梁(103)、以及若干設置在蓋梁(103)下方的基粧(101); 所述的基粧(101)為嵌巖粧，基粧(101)底端進入強風化巖層或中風化巖層。2.如權利要求1所述的加固型地基結構，其特征在于，所述的粧板支撐基粧組件還包含若干對應設置在基粧(101)頂端的粧帽(102)。3.如權利要求1所述的加固型地基結構，其特征在于，所述的粧板(2)采用沒有框架梁和次梁的等厚度鋼筋混凝土平板。4.如權利要求1所述的加固型地基結構，其特征在于，所述的粧帽(102)與基粧(101)剛性連接，粧帽(102)作為粧板(2)的支撐座，與基粧(101) —起支撐粧板主體(202)。5.如權利要求1所述的加固型地基結構，其特征在于，相鄰兩塊粧板(2)的端頭暗梁(201)同時擱置在蓋梁(103)上，基粧(101)與蓋梁(103) 一起支撐粧板主體(202)端部的端頭暗梁(201)。【專利摘要】一種加固型地基結構，包含基樁結構和設置在基樁結構上的樁板結構，樁板結構包含若干樁板，樁板包含樁板主體和設置在樁板主體端部的端頭暗梁，相鄰樁板之間間隔設置，形成樁板間伸縮縫，基樁結構包含若干設置在樁板主體下方的樁板支撐基樁組件和若干設置在樁板間伸縮縫和端頭暗梁下方的樁板縫隙支撐基樁組件，樁板支撐基樁組件包含若干基樁和若干對應設置在基樁頂端的樁帽，樁板縫隙支撐基樁組件包含設置在板間伸縮縫和端頭暗梁下方的蓋梁、以及若干設置在蓋梁下方的基樁，基樁為嵌巖樁，基樁底端進入強風化巖層或中風化巖層。本專利技術加大了地基結構的深度，加固了地基結構的強度，避免地基結構發生沉降。【IPC分類】E02D27/12【公開號】CN105019468【申請號】CN201510461885【專利技術人】江帆, 羅衍儉, 錢文斐, 康曉雯 【申請人】上海市政工程設計研究總院（集團）有限公司【公開日】2015年11月4日【申請日】2015年7月31日本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種加固型地基結構，其特征在于，包含基樁結構和設置在基樁結構上的樁板結構；所述的樁板結構包含若干樁板（2），所述的樁板（2）包含樁板主體（202）和設置在樁板主體（202）端部的端頭暗梁（201），相鄰樁板（2）之間間隔設置，形成樁板間伸縮縫（3）；所述的基樁結構包含若干設置在樁板主體（202）下方的樁板支撐基樁組件和若干設置在樁板間伸縮縫（3）和端頭暗梁（201）下方的樁板縫隙支撐基樁組件；所述的樁板支撐基樁組件包含若干基樁（101）；所述的樁板縫隙支撐基樁組件包含設置在板間伸縮縫（3）和端頭暗梁（201）下方的蓋梁（103）、以及若干設置在蓋梁（103）下方的基樁（101）；所述的基樁（101）為嵌巖樁，基樁（101）底端進入強風化巖層或中風化巖層。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：江帆，羅衍儉，錢文斐，康曉雯，
申請(專利權)人：上海市政工程設計研究總院集團有限公司，
類型：發明
國別省市：上海;31
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