本發明專利技術公開了一種濕式暗場聚光鏡，涉及顯微鏡制作技術領域。這種濕式暗場聚光鏡，有暗場濕鏡（1），暗場濕鏡（1）通過第一壓圈（2）裝在第一鏡座（3）一端，第一鏡座（3）連接有接筒（4），接筒（4）通過下部的接筒部插裝在第二鏡座（5）的中心孔內，接筒部通過設在前端的螺紋段裝在調節環（7）內，調節環（7）通過第二壓圈（8）裝在第二鏡座（5）內，第二鏡座（5）設有多個穿過側壁與調節環（7）外緣相抵接的調節螺釘（9）和至少設有一個與所述調節環（7）外緣相抵接的彈簧圈（6）。本發明專利技術解決了現有暗場聚光系統光照射不均勻使得觀察到的物質與實際偏差大的問題。結構簡單，效果更好。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及顯微鏡制作
，尤其是一種用于顯微鏡的濕式暗場聚光鏡。
技術介紹
暗場顯微鏡是利用光學上丁達爾現象的原理設計的，它的結構特點主要是使用中央遮光板或暗場聚光器，使光源的中央光束被阻擋，不能由下而上地通過標本進入物鏡。從而使光線改變途徑，傾斜地照射在觀察的標本上，標本遇光發生反射或散射，散射的光線投入物鏡內，因而整個視野是黑暗的。在暗場中所觀察到的是被檢物體的衍射光圖像，并非物體的本身，所以只能看到物體的存在和運動，不能辨清物體的細微結構。但被檢物體為非均質時，并大于I / 2波長，則各級衍射光線同時進入物鏡，在某種程度上可觀察物體的構造。一般暗視野顯微鏡雖看不清物體的細微結構，但卻可分辨0.004um以上的微粒的存在和運動，這是普通顯微鏡(最大的分辨力為0.2um)所不具有的特性，可用以觀察活細胞的結構和細胞內微粒的運動等。但是目前現有的暗場聚光系統存在結構復雜，光能損失多使得利用效率低，光照射不均勻使得觀察到的物質與實際偏差較大等問題。
技術實現思路
本專利技術提供一種濕式暗場聚光鏡，以解決現有暗場聚光系統光照射不均勻使得觀察到的物質與實際偏差大的問題。為了解決上述問題，本專利技術所采用的技術方案是:這種濕式暗場聚光鏡包括暗場濕鏡，所述暗場濕鏡通過第一壓圈裝在第一鏡座一端，所述第一鏡座連接有接筒，所述接筒通過下部的接筒部插裝在第二鏡座的中心孔內，所述接筒部通過設在前端的螺紋段裝在調節環內，所述調節環通過第二壓圈裝在所述第二鏡座內，所述第二鏡座設有多個穿過側壁與所述調節環外緣相抵接的調節螺釘和至少設有一個與所述調節環外緣相抵接的彈簧圈。上述技術方案中，更具體的技術方案還可以是:所述暗場濕鏡是由兩塊凸透鏡在接觸面添加有顯微鏡用香柏油并膠接而成的濕鏡膠合組。進一步的:所述調節螺釘為兩個，所述調節螺釘為一個；兩個所述調節螺釘與所述彈簧圈呈圓周均勻分布在所述第二鏡座的上。進一步的:所述接筒的所述接筒部與所述第二鏡座中心孔的配合為間隙配合。由于采用了上述技術方案，本專利技術與現有技術相比具有如下有益效果: 1、本專利技術光照射較均勻，觀察到的物質與實際偏差小:通過調節螺釘9可以控制暗場干鏡I的徑向位移進行聚光，由于接筒的接筒部與第二鏡座5的中心孔的配合為間隙配合，解決了現有暗場聚光系統光照射不均勻使得觀察到的物質與實際偏差大的問題。2、本專利技術清晰度高，光能損失少，光利用率高。3、本專利技術分辨率高，數值孔徑Na為1.22?1.40。4、本專利技術結構簡單，達到的效果好，節省了成本的工序，提高了生產效率。【附圖說明】圖1是本專利技術實施例的結構示意圖。圖2是圖1的K向視圖。【具體實施方式】以下結合附圖實施例對本專利技術作進一步詳述: 如圖1和圖2所示的濕式暗場聚光鏡包括有由兩塊凸透鏡在接觸面添加顯微鏡用香柏油并膠接而成的濕鏡膠合組1，濕鏡膠合組I通過第一壓圈2裝在第一鏡座3 —端，第一鏡座3設有螺紋中心孔，濕鏡膠合組I通過設有外螺紋第一壓圈2裝在第一鏡座3的螺紋中心孔上；第一鏡座3連接有接筒4，接筒4具有設在上部的第一鏡座連接部和設在下部的接筒部，第一鏡座連接部通過螺紋裝在第一鏡座3的螺紋中心孔內；接筒4通過下部的接筒部插裝在第二鏡座5的中心孔內，接筒的接筒部與第二鏡座5的中心孔的配合為間隙配合，在第二鏡座5中心孔的下端設有環形的定位臺；接筒4的接筒部通過設在前端的螺紋段裝在設有內螺紋的調節環7內，調節環7通過第二壓圈8固定在第二鏡座5的定位臺上；本實施例在第二鏡座5上裝有兩個穿過側壁與調節環7外緣相抵接的調節螺釘9和一個與調節環7外緣相抵接的彈簧圈6，彈簧圈6的一端裝在第二鏡座5環形定位臺的彈簧圈安裝孔內；兩個調節螺釘9與彈簧圈6呈圓周均勻分布在第二鏡座5的上，兩個調節螺釘9之間、調節螺釘9與彈簧圈6之間的夾角均為120度。工作時，通過調節螺釘9可以控制濕鏡膠合組I的徑向位移進行聚光，由于接筒的接筒部與第二鏡座5的中心孔的配合為間隙配合，解決了現有暗場聚光系統光照射不均勻使得觀察到的物質與實際偏差大的問題。這種濕式暗場聚光鏡高度為44.1mm,數值孔徑為Na為1.22?1.40。【主權項】1.一種濕式暗場聚光鏡，其特征在于:有暗場濕鏡(I )，所述暗場濕鏡(I)通過第一壓圈(2)裝在第一鏡座(3)—端，所述第一鏡座(3)連接有接筒(4)，所述接筒(4)通過下部的接筒部插裝在第二鏡座(5)的中心孔內，所述接筒部通過設在前端的螺紋段裝在調節環(7 )內，所述調節環(7 )通過第二壓圈(8 )裝在所述第二鏡座(5 )內，所述第二鏡座(5 )設有多個穿過側壁與所述調節環(7)外緣相抵接的調節螺釘(9)和至少設有一個與所述調節環(7)外緣相抵接的彈簧圈(6)。2.根據權利要求1所述的濕式暗場聚光鏡，其特征在于:所述暗場濕鏡(I)是由兩塊凸透鏡在接觸面添加有顯微鏡用香柏油并膠接而成的濕鏡膠合組。3.根據權利要求1或者2所述的干式暗場聚光鏡，其特征在于:所述調節螺釘(9)為兩個，所述調節螺釘(9)為一個；兩個所述調節螺釘(9)與所述彈簧圈(6)呈圓周均勻分布在所述第二鏡座(5)的上。4.根據權利要求1或者2或者3所述的干式暗場聚光鏡，其特征在于:所述接筒的所述接筒部與所述第二鏡座(5)中心孔的配合為間隙配合。【專利摘要】本專利技術公開了一種濕式暗場聚光鏡，涉及顯微鏡制作
這種濕式暗場聚光鏡，有暗場濕鏡（1），暗場濕鏡（1）通過第一壓圈（2）裝在第一鏡座（3）一端，第一鏡座（3）連接有接筒（4），接筒（4）通過下部的接筒部插裝在第二鏡座（5）的中心孔內，接筒部通過設在前端的螺紋段裝在調節環（7）內，調節環（7）通過第二壓圈（8）裝在第二鏡座（5）內，第二鏡座（5）設有多個穿過側壁與調節環（7）外緣相抵接的調節螺釘（9）和至少設有一個與所述調節環（7）外緣相抵接的彈簧圈（6）。本專利技術解決了現有暗場聚光系統光照射不均勻使得觀察到的物質與實際偏差大的問題。結構簡單，效果更好。【IPC分類】G02B21/10【公開號】CN105022151【申請號】CN201510462634【專利技術人】張景華 【申請人】梧州奧卡光學儀器有限公司【公開日】2015年11月4日【申請日】2015年7月31日本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種濕式暗場聚光鏡，其特征在于：有暗場濕鏡（1），所述暗場濕鏡（1）通過第一壓圈（2）裝在第一鏡座（3）一端，所述第一鏡座（3）連接有接筒（4），所述接筒（4）通過下部的接筒部插裝在第二鏡座（5）的中心孔內，所述接筒部通過設在前端的螺紋段裝在調節環（7）內，所述調節環（7）通過第二壓圈（8）裝在所述第二鏡座（5）內，所述第二鏡座（5）設有多個穿過側壁與所述調節環（7）外緣相抵接的調節螺釘（9）和至少設有一個與所述調節環（7）外緣相抵接的彈簧圈（6）。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：張景華，
申請(專利權)人：梧州奧卡光學儀器有限公司，
類型：發明
國別省市：廣西;45
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