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    一種高穩(wěn)定性的無氰堿性鍍鋅溶液制造技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):11982753 閱讀:132 留言:0更新日期:2015-09-02 12:56
    本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種高穩(wěn)定性的無氰堿性鍍鋅溶液,其特征在于,包括以下各組分:鋅離子6~14g/L;氫氧化鈉90~150g/L;光亮劑0.5~1.5mL/L;輔助劑6~20mL/L。本發(fā)明專利技術(shù)的高穩(wěn)定性的無氰堿性鍍鋅溶液,通過重新選擇和組合主光亮劑、輔助劑光亮和載體光亮劑,提高了鍍液的穩(wěn)定性和鍍層性能。本發(fā)明專利技術(shù)提供的高穩(wěn)定性的無氰堿性鍍鋅溶液,鍍液穩(wěn)定,便于維護(hù),電流效率較高且不隨電鍍時(shí)間的延長(zhǎng)而降低,鍍層脆性較小,附著力較大,耐蝕性較高。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及電鍍領(lǐng)域,特別是指一種高穩(wěn)定性的無氰堿性鍍鋅溶液。
    技術(shù)介紹
    無氰堿性鍍鋅溶液以鋅酸鹽和氫氧化鈉為基本成分,適量添加光亮劑和輔助劑。 鍍層適合各種鈍化處理,耐蝕性比酸性鍍鋅高,與氰化鍍鋅大體相同。我國(guó)從20世紀(jì)70年 代開始開發(fā)和使用無氰堿性鍍鋅工藝,在20世紀(jì)末和21世紀(jì)初,開始側(cè)重于提高和改善無 氰堿性鍍鋅工藝性能的研宄。在無氰堿性鍍鋅電鍍添加劑的研宄文獻(xiàn)中,1994年報(bào)道了用 有機(jī)胺與環(huán)氧氯丙烷合成的無氰堿性鍍鋅光亮劑及其性能 ,1999年報(bào)道了 2-巰基噻唑 啉和咪唑在無氰堿性鍍鋅溶液中的作用機(jī)理,2000年報(bào)道了 3-甲氧基-4-羥基苯甲醛 作光亮劑的極化和整平作用,2006年報(bào)道了縮醛類光亮劑在無氰堿性鍍鋅中的陰極行為。在電鍍工藝的開發(fā)與維護(hù)方面,2001年報(bào)道了一例獲得低脆性鍍層的無氰堿性鍍鋅工 藝,2005年報(bào)道了工藝參數(shù)對(duì)無氰堿性鍍鋅沉積速度以及光亮劑對(duì)鍍液和鍍層性能的影 響,2008年報(bào)道了無氰堿性鍍鋅添加劑的使用和鍍液維護(hù)方法 ,2014年報(bào)道了近期開 發(fā)的無氰堿性鍍鋅工藝與鍍液和鍍層性能的測(cè)試結(jié)果。到目前為止,無氰堿性鍍鋅大批 量取代了高毒性的氰化鍍鋅,取得了較好的環(huán)境效益和經(jīng)濟(jì)效益。 無氰堿性鍍鋅已經(jīng)取得了長(zhǎng)足的進(jìn)步,但一些工藝仍存在電流效率低、沉積速度 慢、鍍層脆性較高和結(jié)合力較差等缺陷,有待于進(jìn)一步的研宄和改善。不少無氰堿性鍍鋅 溶液在使用一段時(shí)間后,出現(xiàn)電流效率和鍍層耐蝕性下降的問題,不能滿足高端產(chǎn)品的電 鍍要求。無氰堿性鍍鋅工藝還普遍存在穩(wěn)定性不夠高,鍍液不便于維護(hù)的缺點(diǎn)。無氰堿性 鍍鋅工藝性能的優(yōu)劣,主要取決于所選用的光亮劑和輔助劑。國(guó)內(nèi)目前大多使用芐基吡啶 鑰-3-羧酸鹽(簡(jiǎn)稱BPC)作無氰堿性鍍鋅光亮劑 ,試驗(yàn)表明,該物質(zhì)具有很強(qiáng)的吸附 性和陰極極化作用,使鋅的沉積電位明顯變負(fù),導(dǎo)致電流效率偏低,尤其是光亮劑用量偏高 時(shí),電流效率明顯降低,鍍層的脆性也增大。無氰堿性鍍鋅的載體光亮劑一般使用有機(jī)胺類 化合物和含氮雜環(huán)化合物與環(huán)氧氯丙烷的反應(yīng)產(chǎn)物。 其中參考文獻(xiàn):陳華章,葉小平,楊輝榮.高光亮無氰堿性鍍鋅光亮劑的合成 及性能研宄。廣東化工,1994,21(2):28-29。左正忠,左超,楊江成,等。2-巰基 噻唑啉和咪唑在無氰堿性鍍鋅中的作用.武漢大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版),1999,45(2): 153-156。吳慧敏,陳伏珍,喬兵,等.3-甲氧基-4-羥基苯甲醛在無氰堿性鍍鋅中的作 用.材料保護(hù),2000,33(4) :6-7。孫武,李寧,黎德育.光亮劑在堿性鍍鋅液中的陰 極行為.電鍍與精飾,2006,28(5) :12-14。夏成寶,李清玲.低脆性堿性鍍鋅工藝研 宄.材料保護(hù),2001,34(10) :46-47。唐雪嬌,王福生,韓長(zhǎng)秀,等.無氰電鍍鋅新工 藝試驗(yàn)研宄·南開大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版),2005,38(3) :14-18。吳浩杰,杜楠,安 建華,等.堿性鍍鋅工藝.電鍍與精飾,2008, 30 (5) :30-32。郭崇武.無氰堿性鍍 鋅工藝及鍍層性能.電鍍與精飾,2014,36(1) :9-11+40。張立茗,方景禮,袁國(guó)偉, 等.實(shí)用電鍍添加劑.北京:化學(xué)工業(yè)出版社,2007. 190-193。
    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    本專利技術(shù)的一個(gè)目的是提出了一種高穩(wěn)定性的無氰堿性鍍鋅溶液,解決了目前無氰 堿性鍍鋅溶液存在穩(wěn)定性較低等問題。 本專利技術(shù)的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種高穩(wěn)定性的無氰堿性鍍鋅溶液包括以下各 組分: 鋅尚子 6~14 g/L; 氫氧化鈉 90~150 g/L; 光亮劑 0.5~1.5 mL/L; 輔助劑 6~20mL/L。 優(yōu)選的,所述光亮劑用焦亞硫酸鈉磺化3-甲氧基-4-羥基苯甲醛、3, 4-二甲氧基 苯甲醛、4-甲氧基苯甲醛中的一種,溶解于水中制得。 優(yōu)選的,所述輔助劑由低分子量的聚丙烯酰胺、咪唑與環(huán)氧氯丙烷的反應(yīng)物、吡啶 嗡丙烷磺基甜菜堿或吡啶嗡羥丙磺基甜菜堿組成。 較好的,所述光亮劑由下述方法制備:將20~60g焦亞硫酸鈉溶解于850mL水中, 然后加入10~60g 3-甲氧基-4-羥基苯甲醛或3, 4-二甲氧基苯甲醛或4-甲氧基苯甲醛, 攪拌至該醛類化合物完全溶解,再補(bǔ)加水至l〇〇〇mL。 較好的,所述的輔助劑由下述方法制備:將50~250g低分子量的聚丙烯酰胺、 10~70g咪唑與環(huán)氧氯丙烷的反應(yīng)物、10~70g吡啶嗡丙烷磺基甜菜堿或吡啶嗡羥丙磺基 甜菜堿,加入600g水中,攪拌使其溶解,再補(bǔ)加水至1000mL。 更佳的,所述光亮劑由下述方法制備:將30~50g焦亞硫酸鈉溶解于900mL水中, 然后加入20~50g 3-甲氧基-4-羥基苯甲醛或3, 4-二甲氧基苯甲醛或4-甲氧基苯甲醛, 攪拌至該醛類化合物完全溶解,再補(bǔ)加水至l〇〇〇mL。 更佳的,所述輔助劑由下述方法制備:將50~150g低分子量的聚丙烯酰胺、20~ 50g咪唑與環(huán)氧氯丙烷的反應(yīng)物、20~50g吡啶嗡丙烷磺基甜菜堿或吡啶嗡羥丙磺基甜菜 堿,加入750g水中,攪拌使其溶解,再補(bǔ)加水至1000mL。 本專利技術(shù)的有益效果為:本專利技術(shù)的高穩(wěn)定性的無氰堿性鍍鋅溶液,通過重新選擇和 組合主光亮劑、輔助光亮劑和載體光亮劑,提高了鍍液的穩(wěn)定性和鍍層性能。本專利技術(shù)提供的 高穩(wěn)定性的無氰堿性鍍鋅溶液,鍍液穩(wěn)定,便于維護(hù),電流效率較高且不隨電鍍時(shí)間的延長(zhǎng) 而降低,鍍層脆性較小,附著力較大,耐蝕性較高?!揪唧w實(shí)施方式】 為更好地理解本專利技術(shù),下面通過以下實(shí)施例對(duì)本專利技術(shù)作進(jìn)一步具體的闡述,但不 可理解為對(duì)本專利技術(shù)的限定,對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員根據(jù)上述
    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    所作的一些非本質(zhì)的 改進(jìn)與調(diào)整,也視為落在本專利技術(shù)的保護(hù)范圍內(nèi)。 實(shí)施例1 : 本專利技術(shù)的掛鍍鋅工藝如下: 鋅離子 7~14g/L 氫氧化鈉 120- 140 g當(dāng)前第1頁(yè)1 2 本文檔來自技高網(wǎng)
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    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
    一種高穩(wěn)定性的無氰堿性鍍鋅溶液,其特征在于,包括以下各組分:

    【技術(shù)特征摘要】

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:賴奐汶,郭崇武,
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:廣州超邦化工有限公司,
    類型:發(fā)明
    國(guó)別省市:廣東;44

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