臥式旋轉柱靶制造技術

一種臥式旋轉柱靶，包括機架，所述機架上設置有真空腔體及電機，所述電機固定在真空腔體外，電機的主動軸伸入真空腔體，并通過動密封件與真空腔體相連，所述真空腔體內設置有同步軸、靶材、支撐件及磁流體，所述靶材的兩端分別于磁流體相連，所述靶材的中部由支撐件支撐，所述同步軸由主動軸帶動轉動，同步軸的轉動帶動靶材轉動，新型結構的臥式旋轉靶，充分考慮了靶的利用率、撓度等問題，使靶在鍍制過程中不斷緩慢旋轉，既保證了靶的正常濺射，又最大限度的節約了材料，整個過程穩定、快速。（*該技術在2024年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術主要涉及一種玻璃鍍膜設備，尤其是一種臥式旋轉柱靶。
技術介紹
傳統鍍膜機，磁控濺射多使用平面靶和立式旋轉柱靶。平面靶的優點在于設計安裝相對簡單，屬于固定式安裝。但其靶材浪費較嚴重，一般平面靶材的利用率僅有30%左右。立式旋轉柱靶可極大的提高靶材的利用率，但由于涉及到傳動機構和動密封，設計安裝相對復雜一些。對于中高溫太陽能集熱管，由于需要鍍膜的管子長4m以上，為保證鍍膜質量，鍍制所需要的靶長至少需要5~6m。這樣長的靶如采用傳統的立式旋轉結構，受設備和廠地限制，很難實現，只有采用臥式。而臥式靶如果不旋轉，就類似于普通的平面靶，不可避免地造成平面靶材的浪費。對于中高溫太陽能集熱管來說，靶材直接關系到其吸收率發射率指標，是決定最終使用性能的關鍵因素之一。加之靶材本身價格較昂貴，因此采用合理的結構，最大限度地提高靶材的利用率，就要采用旋轉柱狀靶。
技術實現思路
本技術的目的在于提供一種考慮了靶的利用率、撓度等問題，使靶在鍍制過程中不斷緩慢旋轉，既保證了靶的正常濺射，又最大限度的節約了材料的臥式旋轉柱靶。為解決上述技術問題，本技術提供一種臥式旋轉靶，包括機架，所述機架上設置有真空腔體及電機，所述電機固定在真空腔體外，電機的主動軸伸入真空腔體，并通過動密封件與真空腔體相連，所述真空腔體內設置有同步軸、靶材、支撐件及磁流體，所述靶材的兩端分別于磁流體相連，所述靶材的中部由支撐件支撐，所述同步軸由主動軸帶動轉動，同步軸的轉動帶動靶材轉動。本技術改進有，所述主動軸通過第一齒輪副帶動同步軸轉動。本技術改進有，所述同步軸通過第二齒輪副帶動靶材轉動。本技術改進有，所述支撐件包括支撐架及支撐輪，所述支撐架為V形，支撐輪可轉動的設置在V形的兩邊。本技術改進有，所述所述支撐輪的材質為陶瓷。本技術改進有，所述磁流體靠進靶材端部位置設置有冷水套。本技術的有益效果具體如下：新型結構的臥式旋轉靶，充分考慮了靶的利用率、撓度等問題，使靶在鍍制過程中不斷緩慢旋轉，既保證了靶的正常濺射，又最大限度的節約了材料，整個過程穩定、快速。附圖說明附圖1為本技術的臥式旋轉靶的結構示意圖；附圖2為本技術的臥式旋轉靶的支撐件的結構示意圖。標號說明：1-真空腔體；????2-電機；????3-主動軸；????4-動密封件；????5-第一齒輪副；????6-第二齒輪副；????7-同步軸；????8-磁流體；????9-靶材；????10-支撐件；????101-支撐架；????102-支撐輪。具體實施方式為詳細說明本技術的
技術實現思路
、構造特征、所實現目的及效果，以下結合實施方式并配合附圖詳予說明。請參閱附圖1，附圖所示本技術提供一種臥式旋轉靶，包括機架，所述機架上設置有真空腔體1及電機2，所述電機2固定在真空腔體1外，電機2的主動軸3伸入真空腔體1，并通過動密封件4與真空腔體1相連，所述真空腔體1內設置有同步軸7、靶材9、支撐件10及磁流體8，所述靶材9的兩端分別于磁流體相連，所述靶材9的中部由支撐件10支撐，所述同步軸7由主動軸3帶動轉動，同步軸7的轉動帶動靶材9轉動。正常使用時，首先啟動電機2，電機2在本實施例中不做限制，可以是步進電機、伺服電機等，電機2在轉動時，帶動主動軸3轉動，電機2的驅動軸與主動軸3之間通過聯軸器相連，其是絕緣連接，主動軸3通過密封件與真空腔體1的側壁相連，保證了主動軸3在轉動的過程中也不會有空氣從主動軸3與側壁的連接處進入真空腔體1內。主動軸3通過第一齒輪副5帶動同步軸7轉動，第一齒輪副5包括第一主動輪及第一從動輪，所述第一主動輪與第一從動輪嚙合，第一主動輪固定在主動軸3上，第一從動輪固定在同步軸7上，具體的，通過鍵連接實現兩者的固定，當主動輪轉動時，帶動第一主動輪同步轉動，通過第一從動輪帶動同步軸7轉動，主動軸3與第一齒輪副5保持絕緣。所述同步軸7通過第二齒輪副6帶動靶材9轉動，第二齒輪副6包括兩對第二主動齒輪及第二從動齒輪，具體的，第二主動齒輪設置在同步軸7的兩端，第二從動齒輪設置在靶材9的兩端，當電機2帶動同步軸7轉動時即會帶動第二主動齒輪的轉動，同時帶動靶材9的轉動，靶材9的長度在5-6m，旋轉速度一般控制為0.25轉/分～2轉/分，通過將第二齒輪副6將主動力同步傳動到靶的兩端，保證兩端同步。由于靶材9的長度較長，為了解決長靶的撓度問題，本實施例中設置有支撐件10，所述支撐件10包括支撐架101及支撐輪102，所述支撐架101為V形，支撐輪102可轉動的設置在V形支撐架的兩邊，這種結構是因為支撐的那部分靶材9也需要濺射，所以支撐件10必須是開放式的，不能遮擋靶材9的濺射部分。又因靶本身是帶電的，支撐件10需要與其絕緣，本設計中在靶材9的下部采用一對耐高溫陶瓷滾珠，可隨靶材9的旋轉一起旋轉，減少摩擦的同時，也不影響靶材9濺射，當然，其他實施例中，所述支撐輪也可以是橡膠輪等，同樣能實現靶材的轉動。靶材9的兩端采用磁流體8密封，磁流體8采用的是真空動密封（磁流體8的支撐通過陶瓷件與真空腔體1絕緣），磁流體8密封技術是在磁性流體的基礎上發展而來的，當磁流體8注入磁場的間隙時，它可以充滿整個間隙，形成一種“液體的O型密封圈”。磁流體8密封裝置的功能是把旋轉運動傳遞到密封容器內，磁流體8為較好的真空動密封件4，其漏率可達1×10-10Pa·L/s，無磨損，長壽命，極限真空度10-6Pa，只是其工作溫度不能太高。一般情況下為保證磁流體8正常工作，溫度不能超過80℃。而靶由于進行磁控濺射，瞬間溫度可達1000℃以上，因此必須對磁流體8進行冷卻，本實施例中，在磁流體8靠近靶材9端部的位置加冷水套，對磁流體8進行冷卻。以上所述僅為本技術的實施例，并非因此限制本技術的專利范圍，凡是利用本技術說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的
，均同理包括在本技術的專利保護范圍內。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種臥式旋轉柱靶，其特征在于，包括機架，所述機架上設置有真空腔體及電機，所述電機固定在真空腔體外，電機的主動軸伸入真空腔體，并通過動密封件與真空腔體相連，所述真空腔體內設置有同步軸、靶材、支撐件及磁流體，所述靶材的兩端分別于磁流體相連，所述靶材的中部由支撐件支撐，所述同步軸由主動軸帶動轉動，同步軸的轉動帶動靶材轉動。

【技術特征摘要】
1.一種臥式旋轉柱靶，其特征在于，包括機架，所述機架上設置有真空腔體及電機，所述電機固定在真空腔體外，電機的主動軸伸入真空腔體，并通過動密封件與真空腔體相連，所述真空腔體內設置有同步軸、靶材、支撐件及磁流體，所述靶材的兩端分別于磁流體相連，所述靶材的中部由支撐件支撐，所述同步軸由主動軸帶動轉動，同步軸的轉動帶動靶材轉動。
2.?根據權利要求1所述的臥式旋轉柱靶，其特征在于，所述主動軸通過第一齒輪副帶動同步軸轉動。
3...

【專利技術屬性】
技術研發人員：王靜，朱磊，楊興，張磊，安德吉，曹明剛，
申請(專利權)人：滄州天瑞星光熱技術有限公司，
類型：新型
國別省市：河北;13