本發明專利技術的基板載臺裝置(20A)，具備延伸于掃描方向(X軸方向)、能移動于掃描交叉方向(Y軸方向)的位置的第1步進導件(50)，被第1步進導件(50)從下方支承、能沿第1步進導件(50)上面移動于沿掃描方向的位置且與第1步進導件(50)一起移動于沿掃描交叉方向的位置的微動載臺(30)，以及以第2步進導件(54)的上面為基準面并使用設于微動載臺(30)的Z感測器(38z)求出微動載臺(30)的Z傾斜位置信息的位置測量系。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】【專利摘要】本專利技術的基板載臺裝置（20A)，具備延伸于掃描方向（X軸方向）、能移動于掃描交叉方向（Y軸方向）的位置的第1步進導件（50)，被第1步進導件（50)從下方支承、能沿第1步進導件（50)上面移動于沿掃描方向的位置且與第1步進導件（50)一起移動于沿掃描交叉方向的位置的微動載臺(30)，以及以第2步進導件（54)的上面為基準面并使用設于微動載臺（30)的Z感測器（38z)求出微動載臺（30)的Z傾斜位置信息的位置測量系。【專利說明】移動體裝置、曝光裝置、平面顯示器的制造方法、及元件制 造方法
本專利技術是關于， 詳言之，是關于使移動體沿既定二維平面移動的移動體裝置、具備前述移動體裝置的曝光 裝置、及使用前述曝光裝置的平面顯示器的制造方法、以及使用前述曝光裝置的元件制造 方法。
技術介紹
一直以來，于制造液晶顯示元件、半導體元件等電子元件的光刻工藝中，是使用將 形成于掩膜（或標線片）的圖案以能量束轉印至玻璃基板（或晶圓）上的曝光裝置。 作為此種曝光裝置，一種具有保持基板的微動載臺被重量抵消裝置從下方支承、 且引導該重量抵消裝置往掃描交叉（cross scan)方向的移動的導件，可與重量抵消裝置一 起移動于掃描方向的基板載臺裝置者廣為人知（例如,參照專利文獻1)。 隨著近年基板的大型化，基板載臺裝置亦有大型化而重量增加的傾向。 先行技術文獻 專利文獻 專利文獻1 :美國專利申請公開第2〇10/0266961號說明書
技術實現思路
用以解決課題的手段 本專利技術有鑒于上述情事而為，第1觀點的一種移動體裝置，具備：導件，延伸于既 定二維平面內的第1方向，能在該二維平面內移動于沿與該第1方向正交的第2方向的位 置；移動體，被該導件從下方支承，能沿以該導件規定的第1面移動于沿該第1方向的位 置、且能與該導件一起移動于沿該第2方向的位置；以及位置測量系，將以和該導件不同的 另一構件所規定的第2面作為基準面，求出該移動體在與該二維平面交叉的方向的位置信 息。 根據此專利技術，由于第2面是基準面，因此導件的第1面無需要求精度。因此，能使 導件的構成簡單，而能使移動體裝置小型化、輕量化。 本專利技術第2觀點的移動體裝置，具備：導件，延伸于既定二維平面內的第1方向，能 在該二維平面內移動于沿與該第1方向正交的第2方向的位置；移動體，被該導件從下方支 承，能沿以該導件規定的導引面移動于沿該第1方向的位置、且能與該導件一起移動于沿 該第2方向的位置；以及驅動裝置，設于該導件，將該移動體驅動于與該二維平面交叉的方 向。 根據此專利技術，由于導件是將移動體驅動于與二維平面交叉的方向，因此與另設置 驅動裝置將移動體驅動于與二維平面交叉的方向的情形相較，能使構成簡單，而能使移動 體裝置小型化、輕量化。 0013一 i專利技術弟3觀點的移動體裝置，具備：第1移動構件，延伸于既定二維平面內的第 H向，i匕在該一維平面內移動于沿與該第1方向正交的第2方向的位置；第2移動構件， 該弟1移動構件，能沿該第！移動構件移動于沿該S i方向的位置、且能與該第i移動 構件一起移動于該第2方向；以及移動體，被該第1移動構件從下方支承，被該第2移動構 件誘導而沿該二維平面移動。 根據此專利技術，由于沿二維平面誘導移動體的第2移動構件，可沿從下方支承移動 體的第1移動構件移動于第1方向、且能與第1移動構件一起沿第2方向移動，因此裝置構 成簡單。 本專利技術第4觀點的曝光裝置，具備：于前述移動體保持既定物體的本專利技術第1?第 3觀點中任一的移動體裝置、以及于前述移動體所保持的前述物體使用能量束形成既定圖 案的圖案形成裝置。 本專利技術第5觀點的平面顯示器的制造方法，包含：使用本專利技術第4觀點的曝光裝置 使i u述物體曝光的動作，以及使曝光后的前述物體顯影的動作。 本專利技術第6觀點的元件制造方法，包含：使用本專利技術第4觀點的曝光裝置使前述物 體曝光的動作，以及使曝光后的前述物體顯影的動作。 【專利附圖】【附圖說明】 圖1為概略顯示第1實施形態的液晶曝光裝置的構成的圖。 圖2為圖1的液晶曝光裝置所具有的基板載臺裝置的側視圖。 圖3為圖1的液晶曝光裝置所具有的基板載臺裝置的俯視圖。 圖4中A部分為圖3的基板載臺裝置的B _ B線剖面圖、圖4中B部分為從圖4 中A部分的基板載臺裝置拿掉部分要素的圖。 圖5為第1實施形態的變形例（之1)的基板載臺裝置的俯視圖。 圖6中A部分為圖5的C _ C線剖面圖、圖6中B部分為從圖6中A部分的基板 載臺裝置拿掉部分要素的圖。 圖7為顯示第1實施形態的變形例（之2)的基板載臺裝置的圖。 圖8為圖7的基板載臺裝置的D - D線剖面圖。 圖9為顯示第1實施形態的變形例（之3)的基板載臺裝置的圖。 圖10用以說明圖9的基板載臺裝置的動作的圖。 圖11為顯示第1實施形態的變形例（之4)的基板載臺裝置的圖。 圖12為顯示第1實施形態的變形例（之5)的基板載臺裝置的圖。 圖13為顯示第2實施形態的基板載臺裝置的圖。 圖14為圖13的基板載臺裝置的E - E線剖面圖。 圖15為圖13的基板載臺裝置的俯視圖。 圖16為圖15的基板載臺裝置的F - F線剖面圖。 圖17為顯示圖13的基板載臺裝置中的Z感測器的配置的圖。 圖18為顯示第2實施形態的變形例（之1)的基板載臺裝置的圖。 圖19為圖18的G-G線剖面圖。 圖20為顯示第2實施形態的變形例（之2)的基板載臺裝置的圖。 圖21為顯示第2實施形態的變形例（之3)的基板載臺裝置的圖。 圖22為圖21的Η - Η線剖面圖。 圖23為顯示第2實施形態的變形例（之4)的基板載臺裝置的圖。 圖24為圖23的I - I線剖面圖。 【具體實施方式】 _2]《第1實施形態》 以下，依據圖丨?圖4中Β部分說明第1實施形態。 圖1中概略的了第1實施形態的液晶曝光裝置10的構成。液晶曝光裝置10例如 以用于液晶顯示裝置（平面顯示器）等的矩形（方形）玻璃基板ρ (以下，簡稱基板Ρ)為 曝光對象物的步進掃描（Step&scan)方式的投影曝光裝置、所謂的掃描機。 液晶曝光裝置1〇,具有照明系12、保持形成有電路圖案（掩膜圖案）的掩膜μ的 掩膜載臺14、投影光學系16、裝置本體18、保持表面（圖1中朝向+Ζ側的面）涂有光阻劑 (感應劑）的基板Ρ的基板載臺 2〇Α、以及此等的控制系等。以下，將曝光時掩膜μ與基板ρ 相對投影光學系I6分別被掃描的方向設為X軸方向、水平面內與X軸正交的方向為γ軸方 向、與X軸及Υ軸正交的方向為Ζ軸方向，并以繞X軸、Υ軸及Ζ軸旋轉的方向分別為Θ X、 及θζ方向來進行說明。 照明系I2,具有與例如美國專利第5, 729, 331號說明書等所揭示的照明系相同的 構成。照明系12將曝光用的照明光IL照射于掩膜Μ。作為照明光IL，是使用例如i線（波 長365nm)、g線（波長436nm)、h線（波長4〇 5nm)等的光（或上述i線、g線、h線的合成 光）。 掩膜載臺裝置14具有由中央部形成有開口部的板狀構件構成的掩膜載臺14a。掩 膜載臺14a本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種移動體裝置，具備：導件，延伸于既定二維平面內的第1方向，能在所述二維平面內移動于沿與所述第1方向正交的第2方向的位置；移動體，被所述導件從下方支承，能沿以所述導件規定的第1面移動于沿所述第1方向的位置、且能與所述導件一起移動于沿所述第2方向的位置；以及位置測量系，將以和所述導件不同的另一構件所規定的第2面作為基準面，求出所述移動體在與所述二維平面交叉的方向的位置信息。
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...
【專利技術屬性】
技術研發人員：青木保夫，
申請(專利權)人：株式會社尼康，
類型：發明
國別省市：日本;JP
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