【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種光學(xué)增透膜及其制備方法和光學(xué)組件
本專(zhuān)利技術(shù)涉及光學(xué)器件,尤其涉及一種用于透明或不透明基材表面的光學(xué)增透膜、制備光學(xué)增透膜的方法和光學(xué)組件。
技術(shù)介紹
光學(xué)增透膜,亦稱(chēng)光學(xué)減反膜,其可有效減少制品表面引起的光反射從而增加光學(xué)透過(guò)率。因而在光學(xué)、光電元件的表面常常通過(guò)鍍敷光學(xué)增透膜以減小元件表面的光反射以及由此導(dǎo)致的光能損失。例如在透鏡等光學(xué)制品和計(jì)算機(jī)顯示等圖像顯示儀器領(lǐng)域,使用光學(xué)增透膜可有效提高圖像可視性;在太陽(yáng)能電池領(lǐng)域,鍍有光學(xué)增透膜的玻璃可有效提高前板玻璃的透過(guò)率,從而提高太陽(yáng)能組件輸出功率。目前采用光學(xué)增透膜實(shí)現(xiàn)增透減反技術(shù)主要有三種,一是在基底材料表面涂覆折射指數(shù)較低的單層薄膜層,二是在基底材料表面形成高、低折射率層交替的多層膜,三是采用折射率梯度膜。折射率梯度膜制備工藝非常復(fù)雜,設(shè)備昂貴、成本高且一次性制備面積有限,實(shí)際應(yīng)用中以前兩種為主。與多層膜相比,單層減反膜制備簡(jiǎn)單,適用于大規(guī)模生產(chǎn),特別是在具有成本效益要求的領(lǐng)域顯示出廣闊的應(yīng)用前景。但相比于多層膜,單層增透膜的增透減反效果較弱。為此如何降低單層增透膜的折射率,以提高透光度一直是本領(lǐng)域研究重點(diǎn)。在各項(xiàng)研究中,含氟材料是一種常見(jiàn)的低反射率材料,如采用含氟丙烯酸酯聚合物或氟代的硅氧烷作為增透膜的組分。然而,氟原子引入雖然可以降低材料的折射率,但由于氟材料自身的低表面能可導(dǎo)致涂層與基材的界面粘結(jié)性能變差,且高度氟化的材料也會(huì)降低涂層的硬度和耐久性。為此中國(guó)專(zhuān)利文獻(xiàn)CN101456947B公開(kāi)了一種采用全氟聚醚改性硅氧烷作為前驅(qū)體以改善涂膜防污性能和粘結(jié)性能的技術(shù)方案,但是,該聚醚改性硅 ...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種光學(xué)增透膜,其特征在于,含有具有重復(fù)單元(1)和(2)的共聚物;所述重復(fù)單元(1)和(2)呈交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)連接,且所述重復(fù)單元(1)和(2)的摩爾比為10:1~1:1;所述共聚物通過(guò)以具有式(3)結(jié)構(gòu)的第一單體和具有式(4)結(jié)構(gòu)的第二單體在酸性或堿性催化劑催化作用下縮聚而獲得;(R1O)3Si?R2……………………….(3),(R3O)3?Si?Cm?Si?(R4O)3……...(4);其中,R1、R3、R4為烷基,R2為氫、烷基、或烷氧基,m為整數(shù)。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種光學(xué)增透膜,其特征在于,含有具有重復(fù)單元(1)和(2)的共聚物;所述重復(fù)單元(1)和(2)呈交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)連接,且所述重復(fù)單元(1)和(2)的摩爾比為10:1~1:1;所述共聚物通過(guò)以具有式(3)結(jié)構(gòu)的第一單體和具有式(4)結(jié)構(gòu)的第二單體在酸性或堿性催化劑催化作用下縮聚而獲得;(R1O)3Si-R2……………………….(3),(R3O)3-Si-Cm-Si-(R4O)3……...(4);其中,R1、R3、R4為烷基,R2為氫、烷基、或烷氧基,m為整數(shù)。2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)增透膜,其特征在于,所述酸性催化劑包括鹽酸、硝酸、硫酸或氫氟酸中一種或多種。3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)增透膜,其特征在于,所述堿性催化劑為氨水。4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)增透膜,其特征在于,所述m為1、2或3。5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)增透膜,其特征在于,所述R1、R3、R4為相同或不同的C1~C3的烷基。6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)增透膜,其特征在于,所述R2為C1~C3的烷基或烷氧基。7.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)增透膜,其特征在于,所述R1、R3、R4為甲基,R2為甲氧基、甲基或氫,m為1或2。8.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)增透膜,其特征在于,所述光學(xué)增透膜還含有中空微粒子。9.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)增透膜,其特征在于,所述中空微粒子為二氧化硅顆粒。10.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)增透膜,其特征在于,所述中空微粒子的重量為所述光學(xué)增透膜總量的1~10wt%。11.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)增透膜,其特征在于,所述光學(xué)增透膜的厚度為50~200nm。12.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)增透膜,其特征在于,所述光學(xué)增透膜的厚度為100~150nm。13.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)增透膜,其特征在于,所述縮聚的溫度為60~100℃。14.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)增透膜,其特征在于,所述共聚物通過(guò)以下方法而制得:將所述第一單體與水、有機(jī)溶劑和酸性或堿性催化劑的混合物在60~100℃下攪拌30~120分鐘,之后向所述混合物中添加所述第二單體,并持續(xù)攪拌15~120分鐘,所述第一單體和第二單體的摩爾比為10:1~1:1,且所述第一單體和第二單體的總量和與所述水的摩爾比為1:10~1:90。15.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)增透膜,其特征在于,使用酸性催化劑時(shí),酸性催化劑在縮聚反應(yīng)溶液中的氫離子濃度為0.2~3mol/L;使用堿性催化劑時(shí),堿性催化劑在縮聚反應(yīng)溶液中的氫氧根離子濃度為0.7~6.8mol/L。16.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)增透膜,其特征在于,所述有機(jī)溶劑在縮聚反應(yīng)溶液中的含量大于等于25wt%,且小于等于90wt%。17.一種光學(xué)組件,其特征在于,包括基材以及覆蓋于所述基材表面的權(quán)利要求1~16中任一項(xiàng)所述的光學(xué)增透膜。18.如權(quán)利要求17所述的光學(xué)組件,其特征在于,所述基材的材料包括玻璃、塑料、金屬或陶瓷。19.一種制備光學(xué)增透膜的...
【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:付爽,呂鑫,張磊,
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人:法國(guó)圣戈班玻璃公司,
類(lèi)型:發(fā)明
國(guó)別省市:法國(guó);FR
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