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    抗干擾電容制造技術

    技術編號:17109128 閱讀:41 留言:0更新日期:2018-01-24 22:18
    本實用新型專利技術涉及電子元器件技術領域。本實用新型專利技術公開一種抗干擾電容,包括殼體;所述殼體的內部包括金屬墊片、第一電極膜、第二電極膜和金屬芯;所述金屬墊片為圓環形;所述金屬芯由軸線在一條直線上、依次連接的第一圓柱、第二圓柱和第三圓柱組成;所述金屬墊片與所述第一管口形成的第一空間和所述第二圓柱與所述殼體靠近所述第二端面的第二管口形成的第二空間填充有絕緣膠脂。本實用新型專利技術提供的抗干擾電容可以有效的起到屏蔽作用,保護電容內部的電氣件正常工作,不受外界磁場的干擾。

    Anti-jamming capacitance

    The utility model relates to the technical field of electronic components. The utility model discloses an anti-interference capacitor, which comprises a shell; the inside of the shell comprises a metal gasket, a first electrode, a second electrode film film and metal core; the metal gasket is circular; the metal core is composed of the axis in a straight line, followed by the first column, connecting the second cylinder and third the first second columns; the nozzle space of the metal gasket with the first nozzle and the formation of the second cylinder and the housing adjacent to the second end of the formation of the second space is filled with insulating resin. The anti-interference capacitance provided by the utility model can effectively play a shielding role, and protects the electrical components inside the capacitor to work normally, and is not disturbed by external magnetic fields.

    【技術實現步驟摘要】
    抗干擾電容
    本技術涉及電子元器件
    ,尤其涉及一種抗干擾電容。
    技術介紹
    電磁兼容性(ElectroMagneticCompatibility,簡稱EMC),是指設備或系統在其電磁環境中符合要求運行并不對其環境中的任何設備產生無法忍受的電磁干擾的能力。因此,EMC包括兩個方面的要求:一方面是指設備在正常運行過程中對所在環境產生的電磁干擾不能超過一定的限值;另一方面是指器具對所在環境中存在的電磁干擾具有一定程度的抗擾度,即電磁敏感性。因此,電容在設計生產的過程中也需要考慮其EMC性能。
    技術實現思路
    本技術的一個目的在于:提供一種抗干擾電容,可以屏蔽抗干擾電容的外部的干擾電磁,保證抗干擾電容的正常工作。為達此目的,本技術采用以下技術方案:一種抗干擾電容,包括圓管形的殼體;所述殼體內部包括金屬墊片、第一電極膜、第二電極膜和金屬芯;所述金屬墊片為圓環形;所述金屬芯由軸線在一條直線上、依次連接的第一圓柱、第二圓柱和第三圓柱組成;所述第三圓柱的直徑大于所述第一圓柱的直徑,且小于所述第二圓柱的直徑;所述金屬墊片的內圈的直徑大于所述第一圓柱的直徑;所述金屬墊片的外圈的直徑等于所述第二圓柱的直徑,且小于所述殼體的內壁的直徑;所述殼體的軸線、金屬芯的軸線與金屬墊片的軸線在一條直線上;所述第一電極膜與所述金屬墊片連接,所述第二電極膜與所述第二圓柱連接;且所述第一電極膜與所述第二電極膜之間相互絕緣;所述第一圓柱遠離所述第二圓柱的第一端面和所述第三圓柱遠離所述第二圓柱的第二端面均位于所述殼體的外部;所述金屬墊片到所述第一端面的距離等于所述第二圓柱到所述第二端面的距離;且大于所述金屬墊片到所述殼體靠近所述第一端面的管口的距離;所述金屬墊片與所述第一管口形成的第一空間和所述第二圓柱與所述殼體靠近所述第二端面的第二管口形成的第二空間填充有絕緣膠脂。具體地,上述結構的抗干擾電容可以有效的起到屏蔽作用,保護電容內部的電氣件正常工作,不受外界磁場的干擾。經過實驗表明,其使用溫度可以達到-40℃~125℃,壽命可達10年。作為一種優選的實施方式,所述殼體為壁厚為1mm的鋁外殼。作為一種優選的實施方式,所述金屬墊片和金屬芯均為銅。進一步地,所述金屬墊片和金屬芯的牌號為H61。具體地,經過實驗證明,銅和銀都可以作為金屬芯的材質,但是銅的價格便宜,其中H61牌號的銅效果最好,制作出來的抗干擾電容的抗干擾能力最強。作為一種優選的實施方式,所述第一圓柱的直徑與所述金屬墊片的內圈的直徑的差值為0.1mm。作為一種優選的實施方式,所述第一端面和第二端面上設有螺紋孔,所述螺紋孔的軸線與所述金屬芯的軸線在一條直線上。具體地,所述螺紋孔用于連接抗干擾電容的引腳。作為一種優選的實施方式,所述第三圓柱靠近所述第二端面的側面設有缺口。具體地,所述缺口用于加工時的夾持和固定所述抗干擾電容。作為一種優選的實施方式,所述第一電極膜和第二電極膜之間還設有絕緣膜。具體地,所述絕緣膜用于使第一電極膜和第二電極膜相互絕緣。作為一種優選的實施方式,所述殼體的內壁的直徑為20mm,壁厚為1mm,長度為30mm。進一步地,所述第一端面和第二端面之間的距離為35mm。本技術的有益效果為:提供一種抗干擾電容,可以屏蔽抗干擾電容的外部的干擾電磁,保證抗干擾電容的正常工作。附圖說明下面根據附圖和實施例對本技術作進一步詳細說明。圖1為實施例所述的抗干擾電容的三維示意圖;圖2為實施例所述的抗干擾電容的剖面示意圖。圖中:1、殼體;2、金屬芯;201、第一圓柱;2011、第一端面;202、第二圓柱;203、第三圓柱;2031、缺口;2032、第二端面;3、螺紋孔;4、金屬墊片;5、電容主體,6、絕緣膠脂。具體實施方式下面結合附圖并通過具體實施方式來進一步說明本技術的技術方案。如圖1~圖2所示,一種抗干擾電容,包括圓管形的殼體1;殼體1內部包括金屬墊片4、電容主體5和金屬芯2;電容主體5包括第一電極膜、第二電極膜和位于第一電極膜與第二電極膜之間的絕緣膜;金屬墊片4為圓環形;金屬芯2由軸線在一條直線上、依次連接的第一圓柱201、第二圓柱202和第三圓柱203組成;第三圓柱203的直徑大于第一圓柱201的直徑,且小于第二圓柱202的直徑;金屬墊片4的內圈的直徑大于第一圓柱201的直徑;金屬墊片4的外圈的直徑等于第二圓柱202的直徑,且小于殼體1的內壁的直徑;殼體1的軸線、金屬芯2的軸線與金屬墊片4的軸線在一條直線上;第一電極膜與金屬墊片4連接,第二電極膜與第二圓柱202連接;且第一電極膜與第二電極膜之間相互絕緣;第一圓柱201遠離第二圓柱202的第一端面2011和第三圓柱203遠離第二圓柱202的第二端面2032均位于殼體1的外部;金屬墊片4到第一端面2011的距離等于第二圓柱202到第二端面2032的距離;且大于金屬墊片4到殼體1靠近第一端面2011的管口的距離;金屬墊片4與第一管口形成的第一空間和第二圓柱202與殼體1靠近第二端面2032的第二管口形成的第二空間填充有絕緣膠脂6。絕緣膠脂6一來用于密封殼體1的兩端,二來是使金屬墊片4和金屬芯2等固定和相對定位。第一端面2011和第二端面2032上設有用于連接引腳的螺紋孔3,螺紋孔3的軸線與金屬芯2的軸線在一條直線上,且螺紋孔3上設有倒角。其中,殼體1為內壁直徑20mm,壁厚1mm的圓管。螺紋孔3的直徑為5mm,深度為7mm。金屬墊片4的外圈的直徑為18mm,內圈的直徑為9.6mm,厚度為0.6mm。第一圓柱201的直徑為9.5mm,第二圓柱202的直徑為18mm,第三圓柱203的直徑為12mm。第一端面2011到金屬墊片4的距離等于第二端面2032到第二圓柱202的距離,均為4.5mm。第一端面2011到第二端面2032的距離為35mm,其中第二圓柱202的長度為0.6mm。具體地,上述結構的抗干擾電容可以有效的起到屏蔽作用,保護電容內部的電氣件正常工作,不受外界磁場的干擾。經過實驗表明,其使用溫度可以達到-40℃~125℃,壽命可達10年。于本實施例中,金屬芯2的軸線為第一圓柱201的軸線。于本實施例中,第三圓柱203靠近第二端面2032的側面設有缺口2031。具體地,缺口2031用于加工時的夾持和固定抗干擾電容。經過實驗證明,銅和銀都可以作為金屬芯2的材質,而且,當殼體1為鋁且金屬墊片4和金屬芯2均為銅,尤其是牌號H61的黃銅時,制作出來的抗干擾電容的抗干擾能力最強。本實施例提供的抗干擾電容,可以屏蔽抗干擾電容的外部的干擾電磁,保證抗干擾電容的正常工作。本文中的“第一”、“第二”、“第三”僅僅是為了在描述上加以區分,并沒有特殊的含義。需要聲明的是,上述具體實施方式僅僅為本技術的較佳實施例及所運用技術原理,在本技術所公開的技術范圍內,任何熟悉本
    的技術人員所容易想到的變化或替換,都應涵蓋在本技術的保護范圍內。本文檔來自技高網
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    抗干擾電容

    【技術保護點】
    一種抗干擾電容,其特征在于,包括圓管形的殼體;所述殼體的內部包括金屬墊片、第一電極膜、第二電極膜和金屬芯;所述金屬墊片為圓環形;所述金屬芯由軸線在一條直線上、依次連接的第一圓柱、第二圓柱和第三圓柱組成;所述第三圓柱的直徑大于所述第一圓柱的直徑,且小于所述第二圓柱的直徑;所述金屬墊片的內圈的直徑大于所述第一圓柱的直徑;所述金屬墊片的外圈的直徑等于所述第二圓柱的直徑,且小于所述殼體的內壁的直徑;所述殼體的軸線、金屬芯的軸線與金屬墊片的軸線在一條直線上;所述第一電極膜與所述金屬墊片連接,所述第二電極膜與所述第二圓柱連接;且所述第一電極膜與所述第二電極膜之間相互絕緣;所述第一圓柱遠離所述第二圓柱的第一端面和所述第三圓柱遠離所述第二圓柱的第二端面均位于所述殼體的外部;所述金屬墊片到所述第一端面的距離等于所述第二圓柱到所述第二端面的距離;且大于所述金屬墊片到所述殼體靠近所述第一端面的管口的距離;所述金屬墊片與第一管口形成的第一空間和所述第二圓柱與所述殼體靠近所述第二端面的第二管口形成的第二空間填充有絕緣膠脂。

    【技術特征摘要】
    1.一種抗干擾電容,其特征在于,包括圓管形的殼體;所述殼體的內部包括金屬墊片、第一電極膜、第二電極膜和金屬芯;所述金屬墊片為圓環形;所述金屬芯由軸線在一條直線上、依次連接的第一圓柱、第二圓柱和第三圓柱組成;所述第三圓柱的直徑大于所述第一圓柱的直徑,且小于所述第二圓柱的直徑;所述金屬墊片的內圈的直徑大于所述第一圓柱的直徑;所述金屬墊片的外圈的直徑等于所述第二圓柱的直徑,且小于所述殼體的內壁的直徑;所述殼體的軸線、金屬芯的軸線與金屬墊片的軸線在一條直線上;所述第一電極膜與所述金屬墊片連接,所述第二電極膜與所述第二圓柱連接;且所述第一電極膜與所述第二電極膜之間相互絕緣;所述第一圓柱遠離所述第二圓柱的第一端面和所述第三圓柱遠離所述第二圓柱的第二端面均位于所述殼體的外部;所述金屬墊片到所述第一端面的距離等于所述第二圓柱到所述第二端面的距離;且大于所述金屬墊片到所述殼體靠近所述第一端面的管口的距離;所述金屬墊片與第一管口形成的第一空間和所述第二圓柱與所述殼體靠近所述第二端面的第二管口形成的第...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:袁仁江
    申請(專利權)人:東莞市威慶電子有限公司
    類型:新型
    國別省市:廣東,44

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