光學(xué)構(gòu)件組及使用該光學(xué)構(gòu)件組的固體攝像元件制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)提供可實(shí)現(xiàn)良好的感光靈敏度的光學(xué)構(gòu)件組及使用該光學(xué)構(gòu)件組的固體攝像元件。該光學(xué)構(gòu)件組具有使固化性樹脂組合物固化而成的第1光學(xué)構(gòu)件、和被該第1光學(xué)構(gòu)件被覆的第2光學(xué)構(gòu)件，其中，上述第1光學(xué)構(gòu)件的折射率為1.25～1.45，上述第2光學(xué)構(gòu)件的折射率為1.65～1.95。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】光學(xué)構(gòu)件組及使用該光學(xué)構(gòu)件組的固體攝像元件
本專利技術(shù)涉及光學(xué)構(gòu)件組及使用該光學(xué)構(gòu)件組的固體攝像元件。
技術(shù)介紹
近來，光學(xué)器件的種類已涉及方方面面，其中的大部分具有在光學(xué)機(jī)構(gòu)的表面形成有防反射性的低折射率膜的結(jié)構(gòu)。作為光學(xué)機(jī)構(gòu)，并不限定于表面形狀平坦的機(jī)構(gòu)，也可列舉液晶用背光的亮度提高透鏡或漫射透鏡、用于視頻投影電視的屏幕的菲涅耳透鏡或柱狀透鏡、或微透鏡等。就這樣的器件而言，通過主要利用樹脂材料來形成微細(xì)結(jié)構(gòu)，可獲得所需的幾何光學(xué)性能，通常，為了進(jìn)一步賦予防反射性，可以以適合于這些微細(xì)結(jié)構(gòu)體表面的形式形成低折射率膜。其中，有關(guān)可用于固體攝像元件的微透鏡單元的材料及結(jié)構(gòu)等的研究開發(fā)正得到積極的開展(例如，參見專利文獻(xiàn)I?3)。其背景可列舉在固體攝像元件的微細(xì)化得到發(fā)展的同時，要求用以實(shí)現(xiàn)有效聚光的高性能化。特別是，近年來，伴隨高像素化，單一像素的尺寸已變得非常小。另外，為了能夠在一次制造中制作更多的器件，所使用的晶片尺寸也變大?；谶@樣的背景，提高微透鏡單元的制造品質(zhì)及制品品質(zhì)變得越來越重要。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1:日本特開2006-186295號公報(bào)專利文獻(xiàn)2:日本特開2006-98985號公報(bào)專利文獻(xiàn)3:日本特開2007-119744號公報(bào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
專利技術(shù)要解決的問題然而，本專利技術(shù)人的著眼點(diǎn)在于:就最近得到開發(fā)的具備具有厚度的透光性固化膜(第I光學(xué)構(gòu)件)的微透鏡單元(光學(xué)構(gòu)件組)或其固體攝像元件而言，存在因其厚度而引起攝像靈敏度降低的傾向。本專利技術(shù)也應(yīng)對上述具備具有厚度的透光性固化膜(第I光學(xué)構(gòu)件)的微透鏡單元(光學(xué)構(gòu)件組)所存在的特有的課題，其目的在于提供可實(shí)現(xiàn)良好的感光靈敏度的微透鏡單元(光學(xué)構(gòu)件組)及使用該微透鏡單元(光學(xué)構(gòu)件組)的固體攝像元件。用于解決問題的方法上述課題可通過下述方法得以解決。[I] 一種光學(xué)構(gòu)件組，其具有由固化性樹脂組合物固化而成的第I光學(xué)構(gòu)件、和被該第I光學(xué)構(gòu)件被覆的第2光學(xué)構(gòu)件，其中，第I光學(xué)構(gòu)件的折射率為1.25?1.45，第2光學(xué)構(gòu)件的折射率為1.65?1.95。[2]根據(jù)[I]所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中，第I光學(xué)構(gòu)件的折射率為1.35?1.45，第2光學(xué)構(gòu)件的折射率為1.85?1.95。[3]根據(jù)[I]或[2]所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中，第I光學(xué)構(gòu)件含有硅氧烷樹脂及氟類樹脂中的至少一種。[4]根據(jù)[I]~[3]中任一項(xiàng)所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中，第I光學(xué)構(gòu)件還含有中空粒子。[5]根據(jù)[I]~[4]中任一項(xiàng)所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中，第2光學(xué)構(gòu)件含有二氧化鈦或氧化鋯。 [6]根據(jù)[I]~[5]中任一項(xiàng)所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中，第I光學(xué)構(gòu)件為膜狀，其膜厚為 0.5 μ m ~3.0 μ m。[7]根據(jù)[I]~[6]中任一項(xiàng)所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中，第I光學(xué)構(gòu)件的厚度為500nm~2800nm,第2光學(xué)構(gòu)件的厚度為200nm~1500nm。[8]根據(jù)[I]~[7]中任一項(xiàng)所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中，第I光學(xué)構(gòu)件的折射率與第2光學(xué)構(gòu)件的折射率之差為0.45~0.55。[9]根據(jù)[2]~[8]中任一項(xiàng)所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中，硅氧烷樹脂的65質(zhì)量％以上且100質(zhì)量％以下由下述式(I)所示的倍半硅氧烷結(jié)構(gòu)構(gòu)成。-(R1SiO3Z2)n-式⑴(上述式(I)中，R1表示碳原子數(shù)I~3的烷基。η表示20~1000的整數(shù)。)[10]根據(jù)[I]~[9]中任一項(xiàng)所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中，第I光學(xué)構(gòu)件還含有表面活性劑。[11]根據(jù)[2]~[10]中任一項(xiàng)所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中，硅氧烷樹脂是由下述式(2)所示的烷基三烷氧基硅烷經(jīng)水解縮合而得到的樹脂。R2Si(OR3)3 式⑵(R2表不碳原子數(shù)I~3的烷基，R3表不烷基。)[12]根據(jù)[I]~[11]中任一項(xiàng)所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中，第2光學(xué)構(gòu)件是含有一次粒徑為Inm~IOOnm的金屬氧化物粒子(A)、具有除氫原子以外的原子數(shù)為40~10000的接枝鏈的接枝共聚物⑶以及溶劑(C)的分散組合物的光固化物。[13]根據(jù)[12]所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中，接枝共聚物(B)是具有下述重復(fù)單元和原子數(shù)40~10，000的側(cè)鏈Y、且含有堿性氮原子的樹脂(BI)，所述重復(fù)單元具有基團(tuán)X，所述基團(tuán)X具有pKal4以下的官能團(tuán)。[14]根據(jù)[13]所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中，樹脂(BI)具有下述式(1_1)所示的重復(fù)單元及下述式(1-2)所示的重復(fù)單元,或者,樹脂(BI)具有下述式(1-1)所示的重復(fù)單元及下述式(I_2a)所示的重復(fù)單元。[化學(xué)式I]本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種光學(xué)構(gòu)件組，其具有：使固化性樹脂組合物固化而成的第1光學(xué)構(gòu)件、和被該第1光學(xué)構(gòu)件被覆的第2光學(xué)構(gòu)件，其中，所述第1光學(xué)構(gòu)件的折射率為1.25～1.45，所述第2光學(xué)構(gòu)件的折射率為1.65～1.95。

【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】2011.12.28 JP 2011-288123;2012.09.12 JP 2012-200531.一種光學(xué)構(gòu)件組，其具有: 使固化性樹脂組合物固化而成的第I光學(xué)構(gòu)件、和 被該第I光學(xué)構(gòu)件被覆的第2光學(xué)構(gòu)件， 其中，所述第I光學(xué)構(gòu)件的折射率為1.25~1.45，所述第2光學(xué)構(gòu)件的折射率為1.65 ~1.95。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中， 所述第I光學(xué)構(gòu)件的折射率為1.35~1.45，所述第2光學(xué)構(gòu)件的折射率為1.85~1.95。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué) 構(gòu)件組，其中， 所述第I光學(xué)構(gòu)件含有硅氧烷樹脂及氟類樹脂中的至少一種。4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中， 所述第I光學(xué)構(gòu)件還含有中空粒子。5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中， 所述第2光學(xué)構(gòu)件含有二氧化鈦或氧化鋯。6.根據(jù)權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中， 所述第I光學(xué)構(gòu)件為膜狀，其膜厚為0.5 μ m~3.0 μ m。7.根據(jù)權(quán)利要求1~6中任一項(xiàng)所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中， 所述第I光學(xué)構(gòu)件的厚度為500nm~2800nm,所述第2光學(xué)構(gòu)件的厚度為200nm~1500nmo8.根據(jù)權(quán)利要求1~7中任一項(xiàng)所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中， 所述第I光學(xué)構(gòu)件的折射率與所述第2光學(xué)構(gòu)件的折射率之差為0.45~0.55。9.根據(jù)權(quán)利要求3~8中任一項(xiàng)所述的光學(xué)構(gòu)件組，其中， 所述硅氧烷樹脂的65質(zhì)量％以上且100質(zhì)量％以下由下述式(I)所示的倍半硅氧烷結(jié)構(gòu)構(gòu)成， -(R1SiO372)n-式(I) 上述式(I)中，R1表示碳原子數(shù)I~...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：高桑英希，山本啟之，島田和人，久保田誠，
申請(專利權(quán))人：富士膠片株式會社，
類型：發(fā)明
國別省市：日本;JP