本實用新型專利技術涉及成膜裝置和載體。在抑制在輸送載體過程中產生的載體振動的同時穩定地輸送載體。由于第一桿狀構件(310)的從下方支撐載體(25)的第一支撐面(7X)相對于水平方向傾斜45°,因此,作用于水平方向上的第一水平方向負載(7B)施加于載體(25)。此外,由于第二桿狀構件(320)的從下方支撐載體(25)的第二支撐面(7Y)相對于水平方向傾斜45°,因此,作用于水平方向上的第二水平方向負載(7C)施加于載體(25)。在這種情況下,載體(25)通過第一水平方向負載(7B)壓抵第二桿狀構件(320),且通過第二水平方向負載(7C)壓抵第一桿狀構件(310)。因此,抑制了載體(25)在其厚度方向上的振動。(*該技術在2024年保護過期,可自由使用*)
【技術實現步驟摘要】
成膜裝置和載體
本技術涉及成膜裝置和載體。
技術介紹
硬盤裝置等中使用的磁性記錄介質例如具有晶種膜、基膜、磁性記錄膜、保護膜和潤滑劑膜依次形成于非磁性基板的一個或兩個表面的結構,且通常,這種磁性記錄介質通過在輸送保持基板的載體的同時執行成膜工序的連續式成膜裝置制造(例如,專利文獻I和專利文獻2)。專利文獻I披露的連續式成膜裝置具有執行成膜工序的多個室通過閘閥連接的結構。在每個室中,圍繞水平軸線轉動的多個轉動體被成排地設置于載體的輸送方向上,且載體由多個轉動體引導。此外,在每個室中,圍繞鉛直軸轉動的多個轉動體被成排地設置于載體的輸送方向上,且載體也由多個轉動體弓I導。另一方面,載體包括多個保持件,每個保持件設置有用于將基板配置于其內部的孔部以及可彈性變形且圍繞孔部安裝的多個夾子。保持件可拆裝地保持安裝于夾子內部的基板。同樣,在專利文獻2披露的連續式的成膜裝置中,提供了進行成膜工序的多個室通過門連接的結構。同樣在該成膜裝置中,在輸送保持基板的載體的同時進行成膜工序。在成膜裝置中,在通過利用磁力等將載體的側表面壓抵軌道的側表面的同時輸送載體。因此,在抑制載體的振動的同時輸送載體。引用列表專利文獻專利文獻1:日本特開平8-274142號公報專利文獻2:美國專利N0.8382965
技術實現思路
技術要解決的問題附帶地,如上述描述,在利用轉動體引導載體的情況下,容易導致載體的振動。在設置有轉動體的構造中,每次載體到達轉動體時,轉動體和載體彼此碰撞,由此載體振動。如果載體以這種方式振動,則由載體保持的基板容易掉落。此外,載體的振動引起載體和周邊組件之間的磨擦,且由于磨擦產生磨擦顆粒。此時,磨擦顆粒導致產品質量的下降。另一方面,如上述描述,在利用磁力等使載體的側表面壓抵軌道的側表面的同時輸送載體的構造中,相比于上述利用轉動體的構造抑制了載體的振動。然而,在利用磁力等使載體壓抵軌道的情況下,結構變得復雜。此外,在這種情況下,存在載體的輸送變得不穩定的可能性,從而使得載體難以在磁場強度大的位置被輸送,而在磁場強度小的位置容易移動??紤]到傳統情況而提出本技術的目的,且本技術的目的在于抑制輸送載體時產生的載體振動,由此穩定地輸送載體。用于解決問題的方案本技術所應用到的成膜裝置包括:引導機構,所述引導機構在載體保持基板的情況下引導被沿著輸送路徑輸送的所述載體,在所述基板上進行成膜處理,其中,所述引導機構包括:第一支撐面,所述第一支撐面被配置于所述輸送路徑的一側方,并且從下方支撐在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分;以及第二支撐面,所述第二支撐面被配置于隔著所述輸送路徑與所述第一支撐面相對的對向側,并且從下方支撐在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分,其中,所述第一支撐面朝向所述第二支撐面所在側下降地傾斜設置,并且所述第二支撐面朝向所述第一支撐面所在側下降地傾斜設置。這里,所述第一支撐面被配置于所述輸送路徑的所述一側方,且沿著所述輸送路徑配置以從下方支撐并引導在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分,且所述第二支撐面被配置于所述輸送路徑的另一側方,且沿著所述輸送路徑配置以從下方支撐并引導在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分。此外,所述載體的待由所述第一支撐面支撐的一部分以及所述載體的待由所述第二支撐面支撐的一部分均設置有轉動構件。在這種情況下,能夠平穩地輸送載體。此外,待由所述第一支撐面支撐的部分設置有第一轉動構件,且待由所述第二支撐面支撐的部分設置有第二轉動構件,所述第一轉動構件圍繞具有一端和另一端的轉動軸轉動,且所述第二轉動構件圍繞具有一端和另一端的轉動軸轉動,所述第一轉動構件被配置成使得,其轉動軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側且其轉動軸的所述另一端被定位于所述一側方,且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉動軸相對于水平方向傾斜,且所述第二轉動構件被配置成使得,其轉動軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側且其轉動軸的所述另一端被定位于所述另一側方,且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉動軸相對于水平方向傾斜。在這種情況下,易于沿著所述第一支撐面配置所述第一轉動構件的外周面,且易于沿著所述第二支撐面配置所述第二轉動構件的外周面,因此,能夠更穩定地通過所述第一支撐面支撐所述第一轉動構件且通過所述第二支撐面支撐所述第二轉動構件。此外,所述第一轉動構件和所述第二轉動構件均包括圓筒狀的轉動體,所述第一支撐面從下方與所述第一轉動構件的所述轉動體的外周面接觸,以支撐所述第一轉動構件,并且所述第二支撐面從下方與所述第二轉動構件的所述轉動體的外周面接觸,以支撐所述第二轉動構件。在這種情況下,能夠減少由于所述第一支撐面和所述第一轉動構件之間的磨擦產生的磨擦顆粒以及由于所述第二支撐面和所述第二轉動構件之間的磨擦產生的磨擦顆粒。此外,所述載體的待由所述第一支撐面支撐的部分以及所述載體的待由所述第二支撐面支撐的部分都位于所述載體的重心的上方。在這種情況下,能夠減小所述載體的上部的振動。在本技術為載體的情況下,應用本技術的載體是如下載體,待進行成膜處理的基板安裝于該載體,該載體在由設置于輸送路徑的一側方的引導部以及設置于所述輸送路徑的另一側方的引導部引導的同時被沿著所述輸送路徑輸送,其中,所述輸送路徑設置于成膜裝置中,所述載體包括:載體主體,所述基板安裝于所述載體主體,該載體主體在所述成膜裝置中的所述輸送路徑上被輸送;第一轉動構件,所述第一轉動構件被設置成能夠圍繞具有一端和另一端的轉動軸轉動,當所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時,設置于所述一側方的引導部在從下方支撐所述第一轉動構件的同時引導所述第一轉動構件;和第二轉動構件,所述第二轉動構件被設置成能夠圍繞具有一端和另一端的轉動軸轉動,當所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時,設置于所述另一側方的引導部在從下方支撐所述第二轉動構件的同時引導所述第二轉動構件;其中,所述第一轉動構件被配置成使得,當所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時,所述第一轉動構件的轉動軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側且所述另一端被定位于所述一側方,且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉動軸相對于水平方向傾斜,且所述第二轉動構件被配置成使得,當所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時,所述第二轉動構件的轉動軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側且所述另一端被定位于所述另一側方,且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉動軸相對于水平方向傾斜。這里,所述第一轉動構件和所述第二轉動構件被設置成使得,當所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時,所述第一轉動構件和所述第二轉動構件的設定位置在輸送方向上彼此不同。這種情況下,與當所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時,所述第一轉動構件和所述第二轉動構件的設定位置在輸送方向上相同的情況相比,能夠減小所述載體在垂直于所述輸送方向的方向上的厚度。技術的效果根據本技術,能夠在穩定地輸送載體的同時,抑制輸送載體時產生的載體振動?!靖綀D說明】圖1是通過磁性記錄介質制造裝置制造的磁性記錄介質的截面圖;圖2是用于圖示制造裝置的圖;圖3是載體的立體圖;圖4是示出從圖3的箭頭IV的方向觀察時位于圖3的最右側的位置的上輥對的圖;本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種成膜裝置,其特征在于,所述成膜裝置包括:引導機構,所述引導機構在載體保持基板的情況下引導被沿著輸送路徑輸送的載體,在所述基板上進行成膜處理,其中,所述引導機構包括:第一支撐面,所述第一支撐面被配置于所述輸送路徑的一側方,并且從下方支撐在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分;以及第二支撐面,所述第二支撐面被配置于隔著所述輸送路徑與所述第一支撐面相對的對向側,并且從下方支撐在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分,其中,所述第一支撐面朝向所述第二支撐面所在側下降地傾斜設置,并且所述第二支撐面朝向所述第一支撐面所在側下降地傾斜設置。
【技術特征摘要】
2013.12.27 JP 2013-2735611.一種成膜裝置,其特征在于,所述成膜裝置包括: 引導機構,所述引導機構在載體保持基板的情況下引導被沿著輸送路徑輸送的載體,在所述基板上進行成膜處理,其中, 所述引導機構包括: 第一支撐面,所述第一支撐面被配置于所述輸送路徑的一側方,并且從下方支撐在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分;以及 第二支撐面,所述第二支撐面被配置于隔著所述輸送路徑與所述第一支撐面相對的對向側,并且從下方支撐在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分,其中, 所述第一支撐面朝向所述第二支撐面所在側下降地傾斜設置,并且所述第二支撐面朝向所述第一支撐面所在側下降地傾斜設置。2.根據權利要求1所述的成膜裝置,其特征在于, 所述第一支撐面被配置于所述輸送路徑的所述一側方,并且沿著所述輸送路徑配置以從下方支撐并引導在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分,并且 所述第二支撐面被配置于所述輸送路徑的另一側方,并且沿著所述輸送路徑配置以從下方支撐并引導在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分。3.根據權利要求2所述的成膜裝置,其特征在于,所述載體的待由所述第一支撐面支撐的一部分以及所述載體的待由所述第二支撐面支撐的一部分均設置有轉動構件。4.根據權利要求3所述的成膜裝置,其特征在于, 所述載體的待由所述第一支撐面支撐的部分設置有第一轉動構件,所述載體的待由所述第二支撐面支撐的部分設置有第二轉動構件,所述第一轉動構件圍繞具有一端和另一端的轉動軸轉動,所述第二轉動構件圍繞具有一端和另一端的轉動軸轉動, 所述第一轉動構件被配置成使得,其轉動軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側且其轉動軸的所述另一端被定位于所述一側方,且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉動軸相對于水平方向傾斜,并且 所述第二轉動構件被配置成使得,其轉動軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側且其轉動軸的所述另一端被定位于所述另一側方,且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉動軸相對于水平方向傾斜。5.根據權利要求4所述的成膜裝置,其特...
【專利技術屬性】
技術研發人員:歌代智也,
申請(專利權)人:昭和電工株式會社,
類型:新型
國別省市:日本;JP
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