一種采用兩種鍍膜材料的光學增透膜制造技術

本發明專利技術涉及光學增透膜設計技術領域，尤其涉及一種采用兩種鍍膜材料的光學增透膜，采用四層膜設計，且只采用Ti3O5和SiO2兩種鍍膜材料，滿足透過率在很寬的波長范圍內均較高的設計要求，更能有效地減少因膜欠而導致鏡片邊緣發紅的現象，同時仍可以穩定的保障鏡片的綠色外觀，并一定程度上增加了光學系統光通量，有利于提高成像質量。

【技術實現步驟摘要】
一種采用兩種鍍膜材料的光學增透膜
本專利技術涉及光學增透膜設計
，尤其涉及一種采用兩種鍍膜材料的光學增透膜。
技術介紹
在光學元件中，由于元件表面的反射作用而使光能損失，為了減少元件表面的反射損失，常在光學元件表面鍍層透明介質薄膜，這種薄膜就叫增透膜。很多應用領域中，增透膜是不可缺少的，否則，無法達到應用的要求，以一個由18塊透鏡組成的35_的自動變焦的照相機來說，假定每個玻璃和空氣的界面有4%的反射，沒有增透的鏡頭光透過率為27%，鍍有一層膜的鏡頭光透過率為66%，鍍多層膜的為85%，由此可見，增透膜能很好的滿足應用要求。目前在較高端近可見光波段的增透膜設計中，多數采用三種以上膜料設計，且大部分為大于四層膜的設計。但是此類增透膜用料種類多，用量大，實際鍍膜生產成本較高，而且光通透帶較窄，使光學元件的光學性能受到限制。另外，行業客戶要求鏡片膜色接近綠色，反射率在420到680nm范圍內小于0.5%，現有的增透膜也難以滿足這些設計要求。
技術實現思路
本專利技術的目的在于針對現有技術的不足而提供一種透過率在很寬的波長范圍內均較高且只采用兩種鍍膜材料的光學增透膜。為達到上述目的，本專利技術通過以下技術方案來實現。一種采用兩種鍍膜材料的光學增透膜，包括鏡片，鏡片上鍍有四層膜層，鍍膜公式為:G|HLHL|A;其中G為鏡片，A為空氣，兩豎線并無實際意義，豎線之間代表鍍膜膜層出是Ti3O5, L是SiO2JP該四層膜層從上至下依次為第一層SiO2膜層、第二層Ti3O5膜層、第三層SiO2膜層、第四層Ti3O5膜層，其中第一層SiO2膜層為接觸空氣的表層膜，第四層Ti3O5膜層為緊貼鏡片的鏡片膜層； 四層膜層的物理總厚度為256.69nm ； 每層厚度為: 第四層Ti3O5膜層:13.40nm, 第三層SiO2膜層:28.46nm， 第二層 Ti3O5 膜層:127.83nm， 第一層SiO2膜層:87nm。實際生產所測得Ti3O5和SiO2折射率分別為2.091、1.445，鏡片折射率為1.534，中心波長為550nm，入射角為0°到40°。本專利技術的有益效果為:本專利技術所述的一種采用兩種鍍膜材料的光學增透膜，采用四層膜設計，且只采用Ti3O5和SiO2兩種鍍膜材料，滿足透過率在很寬的波長范圍內均較高的設計要求，更能有效地減少因膜欠而導致鏡片邊緣發紅的現象，同時仍可以穩定的保障鏡片的綠色外觀，并一定程度上增加了光學系統光通量，有利于提高成像質量。【附圖說明】下面利用附圖來對本專利技術進行進一步的說明，但是附圖中的實施例不構成對本專利技術的任何限制。圖1為本專利技術的膜層結構示意圖。圖2為本專利技術的反射曲線圖。圖3為本專利技術的膜層受工藝波動的敏感度示意圖。【具體實施方式】下面結合具體的實施方式來對本專利技術進行說明。如圖1至圖3所示，一種采用兩種鍍膜材料的光學增透膜，包括鏡片，鏡片上鍍有四層膜層，鍍膜公式為:G|HLHL|A;其中G為鏡片，A為空氣，兩豎線并無實際意義，豎線之間代表鍍膜膜層是Ti3O5, L是SiO2 ;即該四層膜層從上至下依次為第一層SiO2膜層、第二層Ti3O5膜層、第三層SiO2膜層、第四層Ti3O5膜層，其中第一層SiO2膜層為接觸空氣的表層膜，第四層Ti3O5膜層為緊貼鏡片的鏡片膜層； 四層膜層的物理總厚度為256.69nm ； 每層厚度為: 第四層Ti3O5膜層:13.40nm, 第三層SiO2膜層:28.46nm， 第二層 Ti3O5 膜層:127.83nm， 第一層SiO2膜層:87nm。上述一種采用兩種鍍膜材料的光學增透膜，所用高折射率為Ti3O5，牢固，且在可見光和近紅外區呈透明，相比TiO2等氧化物，在鍍膜過程中，氧含量不變，能夠得到穩定的折射率。所用低折射率材料為SiO2,是唯一例外的分解很小的材料，光吸收小,抗磨耐腐蝕,相比于常用的MgF2，產生的應力更小，膜層牢固，且成本相對較低。實際生產所測得Ti3O5和SiO2折射率分別為2.091、1.445，鏡片折射率為1.534，中心波長為550nm，入射角為O。到40。。從圖2可看出本專利技術所述一種采用兩種鍍膜材料的光學增透膜具有以下優點: O因客戶要求產品膜色接近綠色，而此膜系的反射率極大值在540左右，處在綠色波段中心略偏長波的位置，比反射極大值位于綠色波段中心的膜系，更能有效地減少因膜欠而導致鏡片邊緣發紅的現象，同時仍可以穩定的保障鏡片的綠色外觀； 2)鏡頭系統本身對膜系的要求是在420—680nm范圍內，反射率小于I。此膜系反射率小于I的波段為402?728nm，比要求標準的波段(420— 680nm)寬許多，即代表新膜系反射率受工藝波動的影響會小許多； 3)反射率極大值在0.4%左右，比要求標準的1%低很多，一定程度上增加了光學系統光通量，有利于提高成像質量。圖3的縱軸數據代表膜層受工藝波動的敏感度，數據越高，敏感度越高；橫軸為膜層數(第幾層膜的意思)，比如橫軸上的4代表第四層膜，圖3可看出本專利技術所述一種采用兩種鍍膜材料的光學增透膜具有以下優點: 1)大多數的薄膜的最高敏感度在30以上，我們的膜系最高敏感度低于17，所以工藝整體的穩定性、重復性非常好，適合大規模生產； 2)鍍膜材料種類少，膜層少均可以減少坩堝旋轉換料所用的時間，以及鍍膜所用的時間，且膜料用料較少，很大程度上節約成本。綜上所述，本專利技術所述的一種采用兩種鍍膜材料的光學增透膜，采用四層膜設計，且只采用Ti3O5和SiO2兩種鍍膜材料，滿足透過率在很寬的波長范圍內均較高的設計要求，更能有效地減少因膜欠而導致鏡片邊緣發紅的現象，同時仍可以穩定的保障鏡片的綠色外觀，并一定程度上增加了光學系統光通量，有利于提高成像質量。以上內容僅為本專利技術的較佳實施例，對于本領域的普通技術人員，依據本專利技術的思想，在【具體實施方式】及應用范圍上均會有改變之處，本說明書內容不應理解為對本專利技術的限制。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種采用兩種鍍膜材料的光學增透膜，包括鏡片，其特征在于：鏡片上鍍有四層膜層，鍍膜公式為：G|HLHL|A；其中G為鏡片，A為空氣，兩豎線并無實際意義，豎線之間代表鍍膜膜層；H是Ti3O5，L是SiO2；即該四層膜層從上至下依次為第一層SiO2膜層、第二層Ti3O5膜層、第三層SiO2膜層、第四層Ti3O5膜層，其中第一層SiO2膜層為接觸空氣的表層膜，第四層Ti3O5膜層為緊貼鏡片的鏡片膜層；四層膜層的物理總厚度為256.69nm；?每層厚度：第四層Ti3O5膜層：13.40nm，第三層SiO2膜層：28.46nm，第二層Ti3O5膜層：127.83nm，第一層SiO2膜層：87nm。

【技術特征摘要】
1.一種采用兩種鍍膜材料的光學增透膜，包括鏡片，其特征在于:鏡片上鍍有四層膜層，鍍膜公式為:G|HLHL|A;其中G為鏡片，A為空氣，兩豎線并無實際意義，豎線之間代表鍍膜膜層出是Ti3O5,L是SiO2 ;即該四層膜層從上至下依次為第一層SiO2膜層、第二層Ti3O5膜層、第三層SiO2膜層、第四層Ti3O5膜層，其中第一層SiO2膜層為接觸空氣的表層膜，第四層Ti3O5膜層為緊貼鏡片的鏡片膜層； 四層膜層的物理...

【專利技術屬性】
技術研發人員：李超，
申請(專利權)人：東莞市旭業光電科技有限公司，
類型：發明
國別省市：廣東;44