本發(fā)明公開(kāi)了一種回旋加速器，回旋加速器包括：磁鐵系統(tǒng)、離子源系統(tǒng)、射頻系統(tǒng)、剝離引出系統(tǒng)、束測(cè)系統(tǒng)、靶系統(tǒng)、升降系統(tǒng)和真空系統(tǒng)，磁鐵系統(tǒng)包括上鐵軛蓋板、下鐵軛蓋板、鐵軛腰、上磁鐵線圈、下磁鐵線圈、磁極組，磁極組包括上扇形磁極和下扇形磁極...

本發(fā)明公開(kāi)了一種輻射防護(hù)屏蔽裝置和使用其的回旋加速器，輻射防護(hù)屏蔽裝置包括上屏蔽體、下屏蔽體和驅(qū)動(dòng)組件，上屏蔽體和下屏蔽體限定出密封的屏蔽空間，回旋加速器位于屏蔽空間內(nèi)，驅(qū)動(dòng)組件用于驅(qū)動(dòng)上屏蔽體和/或下屏蔽體沿上下方向活動(dòng)，以打開(kāi)或者關(guān)...

本發(fā)明提供一種線圈調(diào)節(jié)裝置及回旋加速器。線圈調(diào)節(jié)裝置包括軌道、滑塊組件、連桿、驅(qū)動(dòng)組件及波紋管。滑塊組件與軌道可滑動(dòng)地連接，用于安裝線圈。連桿與滑塊組件連接。驅(qū)動(dòng)組件與連桿連接，用于驅(qū)動(dòng)連桿帶動(dòng)滑塊組件沿軌道移動(dòng)。波紋管包括相背的真空側(cè)...

本發(fā)明公開(kāi)了一種離子源組件，離子源組件包括：主機(jī)，主機(jī)的輸出端設(shè)有內(nèi)桿組件，內(nèi)桿組件設(shè)有第一通道、第二通道和第一電連接端，第一通道用于輸出氣流，第二通道用于輸出冷卻液；頭部組件，頭部組件與內(nèi)桿組件可拆卸配合，頭部組件設(shè)有第一輸出通道、第...

本發(fā)明公開(kāi)了一種質(zhì)子治療患者擺位系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，包括：支撐總成、轉(zhuǎn)動(dòng)總成和輔助功能組件，支撐總成包括底座和回轉(zhuǎn)軸承，回轉(zhuǎn)軸承的內(nèi)圈固定于底座，轉(zhuǎn)動(dòng)總成設(shè)于支撐總成的頂部，且包括轉(zhuǎn)動(dòng)體、固定法蘭、齒輪組件和驅(qū)動(dòng)部件，轉(zhuǎn)動(dòng)體一端的底部設(shè)...

本發(fā)明公開(kāi)了一種內(nèi)潘寧源結(jié)構(gòu)、回旋加速器，內(nèi)潘寧源結(jié)構(gòu)包括：陽(yáng)極組件、第一陰極、第二陰極。陽(yáng)極組件為筒體，以使陽(yáng)極組件的內(nèi)部形成有放電腔，放電腔的兩端具有電子進(jìn)口，電子進(jìn)口的寬度小于放電腔的寬度，陽(yáng)極組件上設(shè)有連通放電腔的離子出口；第一...

本發(fā)明公開(kāi)了一種固體靶裝置。該固體靶裝置包括：準(zhǔn)直器，準(zhǔn)直器具有準(zhǔn)直通道，準(zhǔn)直通道具有入口端和出口端，從入口端向出口端的方向上，至少一部分準(zhǔn)直通道的截面積減小；真空膜，真空膜位于出口端，且真空膜至少用于對(duì)準(zhǔn)直通道內(nèi)的真空區(qū)域進(jìn)行密封；靶...

本發(fā)明公開(kāi)了一種打火保護(hù)方法、控制裝置、醫(yī)用回旋加速器和存儲(chǔ)介質(zhì)。本發(fā)明實(shí)施方式的打火保護(hù)方法用于醫(yī)用回旋加速器。打火保護(hù)方法包括：在檢測(cè)到打火信號(hào)的強(qiáng)度超過(guò)閾值且打火時(shí)間超過(guò)第一預(yù)定時(shí)間時(shí)，控制射頻低電平系統(tǒng)關(guān)閉并記錄射頻低電平系統(tǒng)關(guān)...

本發(fā)明公開(kāi)了一種用于檢測(cè)磁傳感器的檢測(cè)裝置，用于檢測(cè)磁傳感器的檢測(cè)裝置包括：校準(zhǔn)磁體；導(dǎo)向板，導(dǎo)向板與校準(zhǔn)磁體連接，導(dǎo)向板朝向遠(yuǎn)離校準(zhǔn)磁體的方向延伸；支撐部件，支撐部件沿導(dǎo)向板的長(zhǎng)度方向可滑動(dòng)的設(shè)于導(dǎo)向板上；磁場(chǎng)探頭，磁傳感器和磁場(chǎng)探頭...

本發(fā)明公開(kāi)了一種液體靶裝置。該液體靶裝置包括準(zhǔn)直器，所述準(zhǔn)直器具有準(zhǔn)直通道，所述準(zhǔn)直通道具有入口端和出口端；真空膜，所述真空膜位于所述出口端，且所述真空膜至少用于對(duì)所述準(zhǔn)直通道內(nèi)的真空區(qū)域進(jìn)行密封；靶體腔，所述靶體腔位于所述真空膜的背離...

本發(fā)明提供一種陶瓷窗。陶瓷窗包括陶瓷窗內(nèi)導(dǎo)體、陶瓷窗外導(dǎo)體、陶瓷片、水冷管及水冷室。陶瓷窗外導(dǎo)體包圍陶瓷窗內(nèi)導(dǎo)體。陶瓷片穿設(shè)陶瓷窗外導(dǎo)體和陶瓷窗內(nèi)導(dǎo)體。水冷管設(shè)置于陶瓷窗內(nèi)導(dǎo)體內(nèi)。水冷室設(shè)置于陶瓷窗外導(dǎo)體外側(cè)，與陶瓷片固定連接。本發(fā)明的...

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種超導(dǎo)磁體的回溫系統(tǒng)和超導(dǎo)磁體系統(tǒng)，回溫系統(tǒng)包括：超導(dǎo)磁體模塊，超導(dǎo)磁體模塊具有第一連接口和第二連接口；回溫管路，回溫管路設(shè)于超導(dǎo)磁體模塊外側(cè)且與第一連接口和第二連接口連通；泵體，泵體設(shè)于回溫管路且泵體的入口與第一連接...

本發(fā)明公開(kāi)了一種基于EPICS的控制系統(tǒng)的過(guò)程變量配置方法及終端設(shè)備，所述方法包括：針對(duì)每個(gè)類型相同的設(shè)備，根據(jù)其通信協(xié)議類型和設(shè)備類型建立公用設(shè)備模板，得到公用設(shè)備模板庫(kù)，其中，公用設(shè)備模板包括過(guò)程變量列表和設(shè)備基礎(chǔ)信息；確定待配置設(shè)...

本發(fā)明公開(kāi)了一種超導(dǎo)旋轉(zhuǎn)機(jī)架以及質(zhì)子治療設(shè)備，超導(dǎo)旋轉(zhuǎn)機(jī)架包括：機(jī)架本體和束流傳輸系統(tǒng)。束流傳輸系統(tǒng)設(shè)于機(jī)架本體，束流傳輸系統(tǒng)包括第一彎曲模塊、降能模塊、超導(dǎo)消色差彎曲模塊以及掃描治療頭，其中降能模塊包括真空箱和降能系統(tǒng)，降能系統(tǒng)封裝在...

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種激光跟蹤儀打孔定位的靶標(biāo)座，包括：座體部，座體部具有靶球槽和畫(huà)筆槽，靶球槽設(shè)在座體部的頂部，靶球槽為寬度自上而下逐漸減小的錐形，畫(huà)筆槽位于靶球槽的下方，畫(huà)筆槽的一端連通靶球槽，且另一端貫穿座體部的底部并形成有筆尖孔；...

本發(fā)明公開(kāi)了一種放射治療用的擺位系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：床板，床板上安裝有測(cè)量工裝，測(cè)量工裝上安裝有標(biāo)記球；機(jī)械臂，機(jī)械臂與床板連接，用于調(diào)節(jié)床板的位置；光學(xué)追蹤器，用于實(shí)時(shí)測(cè)量標(biāo)記球的位置坐標(biāo)；擺位控制裝置，擺位控制裝置分別與機(jī)械臂、光學(xué)...

本發(fā)明公開(kāi)了一種質(zhì)子治療系統(tǒng)、方法及存儲(chǔ)介質(zhì)，該系統(tǒng)包括：患者擺位子系統(tǒng)，患者擺位子系統(tǒng)包括治療床，治療床對(duì)患者進(jìn)行擺位；擺位模擬子系統(tǒng)，擺位模擬子系統(tǒng)內(nèi)置有患者擺位模型，擺位模擬子系統(tǒng)用于通過(guò)患者擺位模型模擬患者擺位子系統(tǒng)的擺位過(guò)程，...

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種產(chǎn)生低溫等離子體的治療頭，治療頭作用于治療區(qū)域，治療頭包括：第一殼體、第二殼體和電極組件。第二殼體連接在第一殼體上，第二殼體遠(yuǎn)離第一殼體的一側(cè)形成具有敞口的反應(yīng)倉(cāng)。電極組件連接在第二殼體上，電極組件的一端伸入到反應(yīng)倉(cāng)...

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種激光跟蹤儀坐標(biāo)定位輔助裝置，包括：殼體，殼體內(nèi)設(shè)有安裝空間，殼體的底壁設(shè)有適于放置靶球的凹入部，凹入部設(shè)有貫穿殼體的底壁的過(guò)口，殼體的側(cè)壁設(shè)有透視窗；定位桿，定位桿穿設(shè)于殼體，定位桿的一端具有打點(diǎn)部，定位桿的另一端設(shè)...

本發(fā)明公開(kāi)了一種放射治療用的擺位設(shè)備，所述擺位設(shè)備包括：床板，床板用于固定患者；六自由度機(jī)械臂，六自由度機(jī)械臂與床板相連，并用于調(diào)節(jié)床板的位置；位置檢測(cè)裝置，位置檢測(cè)裝置可用于對(duì)床板和六自由度機(jī)械臂所處環(huán)境中的人或物體距離進(jìn)行檢測(cè)，以獲...