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本發明公開一種制造三維集成電路之系統及方法。在一實施例中，該方法包含：提供一具有多個空間光調制器(SLM)成像單元之成像寫入系統，其中該等SLM成像單元系排列成一個或多個平行陣列；接收光罩數據，其中該光罩數據系供寫入一三維集成電路之一層...

本發明揭露一種在微影制程中將光罩數據圖案透過平行同步影像處理機制施加于基板之系統及方法。在一實施例中，該平行同步影像處理系統包括：一圖形引擎，其可將一對象劃分為多個梯形，并取各梯形之一邊，列出一代表該多個梯形之邊表；以及一分配器，其可自...

本發明揭露一種在光刻制程中處理相鄰成像區之間的影像數據的系統及方法。在一實施例中，該方法包含：提供一個具有復數個空間光調制器(SLM)成像單元的平行成像寫入系統，其中該SLM成像單元排列成一個或多個平行陣列；接收一個待寫入基板的光掩膜數...

本發明涉及一種在光刻制程中將光掩膜數據圖案施用于基板的系統及方法。在一個實施例中，該方法包含下列步驟：提供具有復數個空間光調制器(SLM)成像單元的平行成像寫入系統，其中該SLM成像單元排列成一個或多個平行陣列；接收待寫入基板的光掩膜數...

本發明系關于一種在光刻制程中將光掩膜數據圖案施用于基板的系統及方法。在一實施例中，該方法包含下列步驟：提供具有復數個空間光調變器(SLM)成像單元的平行成像寫入系統，其中該等SLM成像單元排列成一個或多個平行陣列；接收待寫入基版的光掩膜...

本發明公開了一種在光刻制程中處理相鄰成像區之間的影像數據的系統及方法。公開了一種在光刻制程中將光掩膜數據圖案施用于基板的方法。在一種實施例中，該方法包括提供一平行成像寫入系統，其中該平行成像寫入系統包含復數個空間光調制器(SLM)成像單...

本發明公開了一種在光刻制程中處理相鄰成像區之間的影像數據的系統及方法。在一實施例中，該光學成像寫入系統包含：復數個空間光調制器（ＳＬＭ）成像單元，其中各該ＳＬＭ成像單元包含一或多個照明光源、一或多個定線光源、一或多個投影透鏡及復數個微鏡...