溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。
一種光柵的制備方法，其包括以下步驟：提供一基底；形成一抗蝕材料薄膜于該基底的表面；納米壓印并刻蝕所述抗蝕材料薄膜，得到抗蝕層；形成一掩模層于所述基底表面，所述掩模層覆蓋所述抗蝕層以及基底通過所述抗蝕層暴露的表面；剝離所述抗蝕層及抗蝕層表面的...該專利屬于清華大學;鴻富錦精密工業（深圳）有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過清華大學;鴻富錦精密工業（深圳）有限公司授權不得商用。
溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。
一種光柵的制備方法，其包括以下步驟：提供一基底；形成一抗蝕材料薄膜于該基底的表面；納米壓印并刻蝕所述抗蝕材料薄膜，得到抗蝕層；形成一掩模層于所述基底表面，所述掩模層覆蓋所述抗蝕層以及基底通過所述抗蝕層暴露的表面；剝離所述抗蝕層及抗蝕層表面的...