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一種化學機械研磨裝置,包括:研磨盤;位于所述研磨盤上用于對晶圓待研磨表面進行研磨的研磨墊以及在研磨時用于夾持所述晶圓的研磨頭;還包括位于所述研磨盤外側并環繞所述研磨盤的高度可調的控制圈,所述控制圈用于在研磨時,在所述研磨墊之上和控制圈內保留...該專利屬于中芯國際集成電路制造(上海)有限公司所有,僅供學習研究參考,未經過中芯國際集成電路制造(上海)有限公司授權不得商用。
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一種化學機械研磨裝置,包括:研磨盤;位于所述研磨盤上用于對晶圓待研磨表面進行研磨的研磨墊以及在研磨時用于夾持所述晶圓的研磨頭;還包括位于所述研磨盤外側并環繞所述研磨盤的高度可調的控制圈,所述控制圈用于在研磨時,在所述研磨墊之上和控制圈內保留...