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本發明公開了一種可提高圖形深寬比的納米壓印方法，包括：（a）軟、硬模板的準備步驟；（b）對半導體基片清洗干燥處理后在其表面上涂覆底膠并執行固化處理，接著在該底膠層上鍍上硬掩膜層且底膠層與硬掩膜層之間的刻蝕選擇比為10以上；（c）在硬掩膜層上...
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