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本發明公開了一種監測工藝制程的等離子體處理裝置，包括一處理基片的等離子體反應腔及監測基片處理制程的一監測裝置，所述監測裝置包括一入射光源，用于向等離子體處理裝置內的基片表面發射脈沖光信號；一光譜儀，用于接收等離子體處理裝置內發出的光信號，其...該專利屬于中微半導體設備（上海）有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過中微半導體設備（上海）有限公司授權不得商用。
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