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本實用新型提供了一種晶圓處理設備，包括：承載盤，用于承托邊緣設置有參照物的晶圓并帶動所述晶圓旋轉，所述承載盤的轉動行程具有額定的起始位置和終止位置；圖像采集模塊，朝向所述承載盤設置，至少采集所述承載盤處于所述終止位置時的第一圖像；以及圖...

本實用新型涉及一種具有升降功能的晶片加熱裝置，其特征在于，包括：加熱器，其被配置為晶片進行加熱，其中在所述加熱裝置中設置有用于容納升降銷的缺口，其中在所述缺口中布置有第一封閉體和第二封閉體，所述第一和第二封閉體彼此間隔一定距離布置并且具...

本實用新型提供了一種研磨墊修整器，包括修整盤、第一管道以及抽真空裝置；所述修整盤具有相對的第一表面和第二表面，所述第一表面具有至少一個第一開口，所述第一開口用于固定金剛石，所述第二表面具有至少一個第二開口，所述第一開口與至少一個第二開口...

該實用新型涉及一種防濺裝置與晶圓處理設備，其中所述防濺裝置包括：閉合擋具，包括底板和設置在底板上方的側壁，所述側壁與所述底板相互連接，圍成一底面閉合的空間，用于放置所述晶圓放置臺，防止噴淋至所述晶圓放置臺上表面的噴淋液濺出；清洗噴頭，朝...

該實用新型涉及一種過濾裝置及凈氣器，其中所述過濾裝置包括：濾網，圍成過濾腔室，待過濾液體進入所述過濾腔室實現過濾；至少一個攪拌器，用于在過濾時設置至所述過濾腔室內，以攪動所述過濾腔室中的待過濾液體。本實用新型中的過濾裝置及凈氣器設置一個...

本實用新型提供了一種刻蝕設備，包括：刻蝕腔室，供晶圓容置其中；以及遮擋裝置，所述遮擋裝置可移動地設置于所述刻蝕腔室內，能夠分別在所述晶圓之外的主刻蝕工位和在所述晶圓上方的邊緣刻蝕工位停留,當所述遮擋裝置停留在所述邊緣刻蝕工位時，所述遮擋...

本實用新型提供的一種金屬有機化合物化學氣相沉積機臺，所述壓環設置在所述底座的上表面，且位于所述基板的外側，其中，所述壓環具有冷卻通道、冷卻液入口和冷卻液出口，所述冷卻通道繞所述壓環的軸線設置在所述壓環內，所述冷卻液入口和冷卻液出口均與所...

本實用新型提供了一種PVD設備，旋轉動力組件、腔體、工作組件和至少兩個靶材，所述腔體包括相互連通的第一腔體和第二腔體，所述第一腔體內設置所述靶材和所述旋轉支撐組件，所述第二腔體內設置所述工作組件，所述靶材通過旋轉支撐組件與所述旋轉動力組...

本實用新型提供一種晶圓冷卻裝置及涂膠顯影設備，所述晶圓冷卻裝置包括：冷卻盤，用于承載晶圓；均流板，設置于所述冷卻盤的下方，且均流板上設置有第一路槽；工作流體，設置于所述第一路槽內。本實用新型提供的晶圓冷卻裝置降低了冷卻管破裂的幾率，減少...

本實用新型提供了一種研磨液手臂以及化學機械研磨機臺。所述研磨液手臂包括殼體、研磨墊清潔刷以及驅動機構，所述研磨墊清潔刷設置于所述殼體下方，所述驅動機構與所述研磨墊清潔刷連接，并用于驅動所述研磨墊清潔刷移動及旋轉以使所述研磨墊清潔刷接觸并...

本實用新型提供了一種晶圓保持環，包括第一圓環、第二圓環以及至少兩個連接裝置；第一圓環具有相對的第一平面和第二平面，第一圓環中形成有沿著第一圓環的厚度方向上下連通的第一子凹陷和第二子凹陷，第一子凹陷的開口暴露于第一平面，第二子凹陷延伸至第...

本實用新型提供了一種多任務清洗裝置，所述多任務清洗裝置包括殼體，殼體表面設置有液體輸入端口、氣體輸入端口及至少兩個輸出端口；殼體內設置有氣體總管道和液體總管道，液體總管道的一端連接液體輸入端口，另一端與多個第一支管道的輸入端連接，氣體總...

本實用新型提供了一種加熱器以及一種爐管，所述加熱器包括沿第一方向間隔排列的多根加熱絲，每根加熱絲連接有多個固定塊并被所述固定塊分隔為多個加熱段，每個加熱段兩端的兩個固定塊之間的連線與第一方向垂直，所述加熱器在工作時第一方向為重力方向，除...

該實用新型涉及一種新型氣缸，包括：缸筒；第一活塞，設置在所述缸筒內，能夠相對于所述缸筒做往復運動，且所述第一活塞內部設置有凹槽，所述凹槽的長度方向與所述第一活塞的運動方向相同；第二活塞，設置于所述第一活塞的凹槽內部，能夠相對于所述第一活...

該實用新型涉及一種載體環以及晶圓沉積設備，其中所述載體環，用于承載晶圓，包括：環形溝槽，設置在所述載體環的上表面，將所述載體環的圓心環繞在內，且所述上表面用于與晶圓接觸，承載晶圓。以上載體環以及晶圓沉積設備在所述載體環的上表面設置有環形...

該實用新型涉及一種機械手臂及晶圓處理裝置，其中機械手臂包括：手臂本體；供電塊，安裝至手臂本體，表面設置有導電柱，供電塊用于為手臂本體供電，并能跟隨手臂本體運動；驅動器，電連接至供電塊，用于驅動手臂本體運動；安裝架，用于安裝手臂本體，包括...

該實用新型涉及一種擦拭裝置，包括：安裝條，表面設置有導軌，用于將所述導軌固定到待擦拭的閥門表面；至少一個擦拭條，安裝至所述導軌，并能夠沿所述導軌的長度方向運動，且在所述安裝條安裝至所述閥門表面時，所述擦拭條與所述閥門表面相接觸。以上擦拭...

本實用新型提供了一種離子植入設備，包括：排氣單元，用于排出未參與離子植入的離子束，所述排氣單元包括：排氣泵，用于為排出未參與離子植入的離子束提供動力；氣體凈化單元，用于對未參與離子植入的離子束進行凈化；以及連接管，連接于所述排氣泵和所述...

本實用新型公開了一種電鍍缸腔體結構，包括：腔體外壁，用于形成整個腔體的外部輪廓；一個或多個冷卻面板管及框架，所述冷卻面板管及框架作為腔體隔離結構將腔體隔離為多個獨立的部分，所述冷卻面板管及框架的表面上設置有熱交換器。

本實用新型涉及一種拋光墊修整器，包括：修整盤，其被配置為對拋光墊進行修整；以及擋板，其與氣缸連接，使得所述擋板能夠在氣缸的帶動下在第一位置與第二位置之間切換，其中所述擋板在處于第一位置時至少部分地封閉修整盤，并且在處于第二位置時露出修整...